[发明专利]传输晶圆方法及装置有效
申请号: | 201711444773.9 | 申请日: | 2017-12-27 |
公开(公告)号: | CN108198770B | 公开(公告)日: | 2020-04-28 |
发明(设计)人: | 史霄;舒福璋;陶利权;熊朋 | 申请(专利权)人: | 北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所) |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/677 |
代理公司: | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人: | 郭新娟 |
地址: | 100000 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 传输 方法 装置 | ||
本发明涉及单晶圆清洗设备领域,具体而言,涉及一种传输晶圆方法及装置,所述方法通过抓取结构抓取晶圆,将晶圆传输到预设位置,通过翻转结构从抓取结构上夹取出晶圆,并调整晶圆的角度,使晶圆的角度与工艺槽的角度一致,翻转结构将晶圆放到工艺槽中,实现对晶圆在不同方向和角度的工艺槽中传输。该方法对晶圆的传输产能高。
技术领域
本发明涉及单晶圆清洗设备领域,具体而言,涉及一种传输晶圆方法及装置。
背景技术
晶圆清洗设备由多个工艺槽体组成,每个槽体负责一道清洗工艺,如超声/兆声波清洗槽、刷洗槽、干燥槽等。为了达到既定的工艺效果,对每个槽体的设置方向和角度不尽相同,例如有水平设置的,有竖直设置的,每一个晶圆的加工过程都有可能经过这些方向和角度不尽相同的工艺槽的加工。然而,将晶圆放置到不同的方向上的工艺槽成了一个技术难题。
现有的传输晶圆装置通过拾取臂和气爪的开合夹取晶圆,气爪的开合通过与气爪连接的气缸实现,并通过将夹取的晶圆进行位置旋转,进而传输到工艺槽中。然而现有的传输晶圆装置和晶圆传输方法的传输产能低。
发明内容
本发明的目的在于提供一种传输晶圆方法及装置,其旨在解决现有技术中存在的上述问题。
本发明实施例提供了一种传输晶圆方法,所述方法包括:通过抓取结构抓取晶圆,将晶圆传输到预设位置;通过翻转结构从抓取结构上夹取出晶圆,并调整晶圆的角度,使晶圆的角度与工艺槽的角度一致;翻转结构将晶圆放到工艺槽中。
作为进一步的,通过抓取结构抓取晶圆,将晶圆传输到预设位置的步骤,包括:通过所述第二导轨在所述第一导轨上滑动从而带动与所述第二导轨连接的所述卡爪结构在水平方向移动;当所述卡爪结构移动到与晶圆的距离到达设定距离时,所述连接臂沿着所述第二导轨上滑动从而带动所述卡爪结构在竖直方向移动;当所述卡爪部的中心与晶圆的中心在同一水平线上时,所述连接臂停止在竖直方向的运动,通过所述第二导轨在所述第一导轨上朝靠近晶圆的水平方向滑动设定距离,使得晶圆处在所述卡爪部的中心;所述连接臂沿着所述第二导轨上滑动从而带动所述卡爪结构在竖直方向上升,使得晶圆落入所述卡槽上;通过所述卡槽卡爪住晶圆并随着连接臂沿着所述第二导轨上滑动而在竖直方向移动,随着第二导轨在第一导轨上滑动而在水平方向移动,使得将晶圆传输到预设位置。
作为进一步的,通过翻转结构从抓取结构上夹取出晶圆,并调整晶圆的角度,使晶圆的角度与工艺槽的角度一致的步骤,包括:通过所述第四导轨在所述第三导轨上滑动从而带动所述夹爪结构在水平方向移动到达设定位置;通过所述动力部在所述第四导轨上滑动从而带动所述夹爪结构在竖直方向移动到达所述预设位置;通过所述动力部调节所述夹爪结构的角度和长度使得所述夹爪结构能够从所述卡槽上夹取晶圆;通过所述动力部在所述第四导轨上滑动从而带动所述夹爪结构以及晶圆在竖直方向移动到既定位置;通过所述第四导轨在所述第三导轨上滑动从而带动所述夹爪结构以及晶圆在水平方向移动到工艺槽上方;通过所述动力部调节所述夹爪结构的角度,使得所述夹爪结构上的晶圆的角度与工艺槽的角度一致。
作为进一步的,所述翻转结构将晶圆放到工艺槽中的步骤,包括:所述动力部调节所述夹爪结构的夹角,松开晶圆,使得晶圆落入工艺槽中。
本发明实施例还提供了一种传输晶圆装置,所述装置包括抓取结构和翻转结构;所述抓取结构和所述翻转结构相对设置,所述抓取结构和所述翻转结构在同一平面上,所述抓取结构与所述翻转结构的距离在设定范围之内,使得所述抓取结构和所述翻转结构能够配合传输晶圆。
作为进一步的,所述抓取结构包括第一导轨、第二导轨、连接臂和卡爪结构;所述第一导轨水平设置;所述第二导轨与所述第一导轨连接,并与所述第一导轨垂直且所述第二导轨能够沿着所述第一导轨轴向移动;所述连接臂一端与所述第二导轨连接,且能够沿着所述第二导轨的轴向移动;所述连接臂远离所述第二导轨的一端与所述卡爪结构连接。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所),未经北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201711444773.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:电子元器件制造设备
- 下一篇:一种流量控制方法及流量控制装置
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造