[发明专利]传输晶圆方法及装置有效
申请号: | 201711444773.9 | 申请日: | 2017-12-27 |
公开(公告)号: | CN108198770B | 公开(公告)日: | 2020-04-28 |
发明(设计)人: | 史霄;舒福璋;陶利权;熊朋 | 申请(专利权)人: | 北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所) |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/677 |
代理公司: | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人: | 郭新娟 |
地址: | 100000 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 传输 方法 装置 | ||
1.一种传输晶圆方法,其特征在于,所述方法包括:
通过抓取结构抓取晶圆,将晶圆传输到预设位置;
通过翻转结构从抓取结构上夹取出晶圆,并调整晶圆的角度,使晶圆的角度与工艺槽的角度一致;
翻转结构将晶圆放到工艺槽中;
其中,所述翻转结构包括第三导轨、第四导轨、动力部和夹爪结构;所述第三导轨水平设置,与所述抓取结构平行相对且所述第三导轨与所述抓取结构的距离在设定范围内;所述第四导轨与所述第三导轨连接,并与所述第三导轨垂直且能够沿着所述第三导轨的轴向方向移动;所述动力部一侧与所述第四导轨连接,且能够沿着所述第四导轨的轴向移动;所述动力部远离所述第四导轨的一侧与所述夹爪结构连接,用于调节所述夹爪结构的角度,以使所述夹爪结构能够夹爪晶圆。
2.根据权利要求1所述的传输晶圆方法,其特征在于,所述抓取结构包括第一导轨、第二导轨、连接臂和卡爪结构;所述第一导轨水平设置;所述第二导轨与所述第一导轨连接,并与所述第一导轨垂直且所述第二导轨能够沿着所述第一导轨轴向移动;所述连接臂一端与所述第二导轨连接,且能够沿着所述第二导轨的轴向移动;所述连接臂远离所述第二导轨的一端与所述卡爪结构连接;所述卡爪结构包括卡爪部和卡槽,所述卡爪部是一个圆弧状结构,所述卡槽设置在所述卡爪部的开口位置;
通过抓取结构抓取晶圆,将晶圆传输到预设位置的步骤,包括:
通过所述第二导轨在所述第一导轨上滑动从而带动与所述第二导轨连接的所述卡爪结构在水平方向移动;
当所述卡爪结构移动到与晶圆的距离到达设定距离时,所述连接臂沿着所述第二导轨上滑动从而带动所述卡爪结构在竖直方向移动;
当所述卡爪部的中心与晶圆的中心在同一水平线上时,所述连接臂停止在竖直方向的运动,通过所述第二导轨在所述第一导轨上朝靠近晶圆的水平方向滑动设定距离,使得晶圆处在所述卡爪部的中心;
所述连接臂沿着所述第二导轨上滑动从而带动所述卡爪结构在竖直方向上升,使得晶圆落入所述卡槽上;
通过所述卡槽卡爪住晶圆并随着连接臂沿着所述第二导轨上滑动而在竖直方向移动,随着第二导轨在第一导轨上滑动而在水平方向移动,使得将晶圆传输到预设位置。
3.根据权利要求2所述的传输晶圆方法,其特征在于,
通过翻转结构从抓取结构上夹取出晶圆,并调整晶圆的角度,使晶圆的角度与工艺槽的角度一致的步骤,包括:
通过所述第四导轨在所述第三导轨上滑动从而带动所述夹爪结构在水平方向移动到达设定位置;
通过所述动力部在所述第四导轨上滑动从而带动所述夹爪结构在竖直方向移动到达所述预设位置;
通过所述动力部调节所述夹爪结构的角度和长度使得所述夹爪结构能够从所述卡槽上夹取晶圆;
通过所述动力部在所述第四导轨上滑动从而带动所述夹爪结构以及晶圆在竖直方向移动到既定位置;
通过所述第四导轨在所述第三导轨上滑动从而带动所述夹爪结构以及晶圆在水平方向移动到工艺槽上方;
通过所述动力部调节所述夹爪结构的角度,使得所述夹爪结构上的晶圆的角度与工艺槽的角度一致。
4.根据权利要求3所述的传输晶圆方法,其特征在于,所述翻转结构将晶圆放到工艺槽中的步骤,包括:
所述动力部调节所述夹爪结构的夹角,松开晶圆,使得晶圆落入工艺槽中。
5.一种传输晶圆装置,其特征在于,所述装置包括抓取结构和翻转结构;
所述抓取结构和所述翻转结构相对设置,所述抓取结构和所述翻转结构在同一平面上,所述抓取结构与所述翻转结构的距离在设定范围之内,使得所述抓取结构和所述翻转结构能够配合传输晶圆;
所述翻转结构包括第三导轨、第四导轨、动力部和夹爪结构;
所述第三导轨水平设置,与所述抓取结构平行相对且所述第三导轨与所述抓取结构的距离在设定范围内;
所述第四导轨与所述第三导轨连接,并与所述第三导轨垂直且能够沿着所述第三导轨的轴向方向移动;
所述动力部一侧与所述第四导轨连接,且能够沿着所述第四导轨的轴向移动;
所述动力部远离所述第四导轨的一侧与所述夹爪结构连接,用于调节所述夹爪结构的角度,以使所述夹爪结构能够夹爪晶圆。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造