[发明专利]一种像素界定层及其制备方法、显示装置

说明书

本发明公开了一种像素界定层及其制备方法、显示装置，所述像素界定层具有坝体和坝体侧面围成的界定区，所述坝体的主体材料为叠氮化环氧树脂，所述坝体侧面分为上部侧面和下部侧面，所述上部侧面接枝有疏水基团，所述下部侧面接枝有亲水基团。本发明解决了现有像素界定层难以实现打印均匀薄膜的问题。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种像素界定层及其制备方法。

背景技术

量子点具有发光颜色易于调节、色彩饱和度高、可溶液加工、高稳定性等诸多优点，使得量子点发光二极管(QLED)被视为下一代显示技术的有力竞争者。现有技术中，制备量子点电致发光器件的方法主要有喷墨打印、转印等方式，其中喷墨打印技术能将含发光功能材料的墨水精确地喷到像素区中，形成发光功能层，能有效提高像素分辨率，但是墨水在像素区内难以形成厚度均一的薄膜。

在喷墨打印器件的基板上通常会制作像素界定层，用来限定墨滴精确地滴入指定的像素区域，对像素界定层进行亲水/疏水分层处理能够提高打印薄膜的均匀性，常见的制备亲/疏水两层结构的像素界定层的方法主要有两种：一种是采用分步沉积法分别制备不同亲疏水性的上下部分，这种技术步骤繁琐，需要用到不同的沉积设备，且沉积两种不同的材料易存在界面问题，发生分层；另外一种则是先制备单体像素界定层，在上半或下部分用“涂膜”的方式，形成疏水涂层或亲水涂层，然而由于涂膜与像素界定层之间吸附力弱，在打印过程中容易被打印墨水冲洗掉，存在稳定性的问题；另外，通常会使用形状记忆聚合物来制作像素界定层，其同时记录两种形状，以满足对不同结构像素界定层的制备工艺需要，但是普通的形状记忆聚合物在制作成像素界定层后，难以对表面进行改性，难以形成上部分疏水性、下部分亲水性的结构，也同样不利于控制打印薄膜的均匀性。

因此，现有技术还有待于改进和发展。

发明内容

鉴于上述现有技术的不足，本发明的目的在于提供一种像素界定层及其制备方法，旨在解决现有像素界定层难以实现打印均匀薄膜的问题。

本发明的另一目的在于提供一种含有上述像素界定层的显示装置。

本发明的技术方案如下：

一种像素界定层，其中，所述像素界定层具有坝体和坝体侧面围成的界定区，所述坝体的主体材料为叠氮化环氧树脂，所述坝体侧面分为上部侧面和下部侧面，所述上部侧面接枝有疏水基团，所述下部侧面接枝有亲水基团。

所述的像素界定层，其中，所述亲水基团为含2~7个碳原子的烃基，且所述烃基上含羟基或羧基。

所述的像素界定层，其中，所述疏水基团为含8~18个碳原子的烃基。

一种像素界定层的制备方法，其中，包括步骤：

提供初始像素界定层，所述初始像素界定层具有坝体和坝体侧面围成的界定区，所述坝体的主体材料为叠氮化环氧树脂，所述坝体侧面分为上部侧面和下部侧面；

将亲水性的炔类化合物加入初始像素界定层的界定区，使亲水性的炔类化合物与界定区的下部侧面发生加成反应，在下部侧面接枝亲水基团；

将疏水性的炔类化合物加入下部侧面接枝亲水基团的界定区，使疏水性的炔类化合物与界定区的上部侧面发生加成反应，在上部侧面接枝疏水基团。

所述的像素界定层的制备方法，其中，所述将亲水性的炔类化合物加入初始像素界定层的界定区，使亲水性的炔类化合物与界定区的下部侧面发生加成反应，在下部侧面接枝亲水基团的方法，包括步骤：

将亲水性的炔类化合物加入初始像素界定层的界定区至高度h1，使亲水性的炔类化合物与界定区的下部侧面发生加成反应，在下部侧面接枝亲水基团；其中h1像素界定层的高度。