[发明专利]用于气相沉积的喷头有效
申请号: | 201711429316.2 | 申请日: | 2017-12-26 |
公开(公告)号: | CN108103479B | 公开(公告)日: | 2020-07-14 |
发明(设计)人: | 孟杰;吴龙江;林宗贤 | 申请(专利权)人: | 德淮半导体有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 金晓 |
地址: | 223300 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 沉积 喷头 | ||
1.一种用于气相沉积的喷头,其特征在于:
所述喷头包括多个孔;
位于所述喷头的边缘区域的孔向所述喷头的外部倾斜;
当从所述喷头的顶部向底部看去时,向所述喷头的外部倾斜的孔进一步相对于所述喷头沿水平方向的横截面的径向偏转;并且
向所述喷头的外部倾斜的孔位于所述喷头的边缘区域内的两圈或更多圈圆周上,并且位于所述喷头的边缘区域内的两圈或更多圈圆周上的向所述喷头的外部倾斜的孔相对于所述喷头沿水平方向的横截面的径向偏转的角度从内圈向外圈逐渐增大,从而形成向外的漩涡状气流。
2.根据权利要求1所述的喷头,其特征在于:
向所述喷头的外部倾斜的孔相对于所述喷头的垂直方向的倾斜角度小于或等于45度。
3.根据权利要求1所述的喷头,其特征在于:
位于所述喷头的边缘区域内的两圈或更多圈圆周上的向所述喷头的外部倾斜的孔相对于所述喷头的垂直方向的倾斜角度相同或从内圈向外圈逐渐增大。
4.根据权利要求3所述的喷头,其特征在于:
位于所述喷头的边缘区域内的两圈或更多圈圆周上的向所述喷头的外部倾斜的孔相对于所述喷头的垂直方向的倾斜角度αn以相同或不同的角度差σn从内圈向外圈逐渐增大,其中
σn=αn+1-αn
其中,n为大于或等于1的整数。
5.根据权利要求1所述的喷头,其特征在于:
所述喷头的中间区域的孔形成垂直气流,而所述喷头的边缘区域的孔形成向外的气流。
6.根据权利要求1所述的喷头,其特征在于:
向所述喷头的外部倾斜的孔沿顺时针或逆时针方向相对于所述喷头沿水平方向的横截面的径向偏转。
7.根据权利要求1所述的喷头,其特征在于:
向所述喷头的外部倾斜的孔相对于所述喷头沿水平方向的横截面的径向偏转的角度小于或等于45度。
8.根据权利要求1所述的喷头,其特征在于:
位于所述喷头的边缘区域内的两圈或更多圈圆周上的向所述喷头的外部倾斜的孔相对于所述喷头沿水平方向的横截面的径向偏转的角度βn以相同或不同的角度差σ’n从内圈向外圈逐渐增大,其中
σ’n=βn+1-βn
其中,n为大于或等于1的整数。
9.一种气相沉积设备,其特征在于,包括根据权利要求1-8中任意一项所述的喷头。
10.根据权利要求9所述的气相沉积设备,其特征在于,所述气相沉积设备还包括:
加热器,所述加热器位于所述喷头的正下方;以及
支撑轴,所述支撑轴支撑所述加热器。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的