[发明专利]一种计算单目图像的深度次序的方法和装置有效

专利信息
申请号: 201711423455.4 申请日: 2017-12-25
公开(公告)号: CN107993239B 公开(公告)日: 2022-04-12
发明(设计)人: 康学净;于瑷玮;明安龙;周瑜;张雪松;宋桂岭;姚超 申请(专利权)人: 北京邮电大学
主分类号: G06T7/12 分类号: G06T7/12;G06K9/62;G06T7/181;G06V10/764
代理公司: 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413 代理人: 马敬;项京
地址: 100876 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 计算 图像 深度 次序 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种计算单目图像的深度次序的方法,其特征在于,所述方法包括:

使用预设的过分割算法和预设的分类器依次对单目图像进行处理,生成所述单目图像的遮挡轮廓图;

使用预设的卷积核遍历所述遮挡轮廓图中的各像素点,生成各像素点对应的卷积值;

在所述各像素点对应的卷积值中,将卷积值为预设值的像素点确定为间断点,所述间断点为所述遮挡轮廓图中位于缺失的像素点两端的像素点;

将相邻的间断点之间的最短路径,确定为所述相邻的间断点之间的待填充轮廓;

沿着所述待填充轮廓,填充相邻的间断点之间缺失的像素点,生成填充后的遮挡轮廓图;

根据所述填充后的遮挡轮廓图,计算所述单目图像的深度次序;

所述根据所述填充后的遮挡轮廓图,计算所述单目图像的深度次序的步骤,包括:

从所述填充后的遮挡轮廓图中提取局部SLC边界特征、T型角点特征和区域显著性特征,所述局部边界特征包括凸性C边界特征;

判断所述C边界特征表征的遮挡轮廓图中各区域之间的第一前后关系,与所述T型角点特征表征的遮挡轮廓图中各区域之间的第二前后关系是否一致;

当目标第一前后关系与目标第二前后关系不一致时,将所述目标第二前后关系对应的T型角点特征确定为错误T型角点特征,并根据所述目标第一前后关系,对所述错误T型角点特征进行修正;

根据所述SLC边界特征、修正后的T型角点特征以及所述区域显著性特征,生成初始的混合能量函数,所述初始的混合能量函数包括所述填充后的遮挡轮廓图中各区域的前后顺序标签,所述初始的混合能量函数中的前后顺序标签是随机产生的;

使用模拟退火算法,对所述混合能量函数进行最小化训练,得到训练后的混合能量函数;

根据所述训练后的混合能量函数中的前后顺序标签,确定所述单目图像的深度次序。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,在所述将卷积值为预设值的像素点确定为间断点的步骤之后,所述方法还包括:

计算两个相邻的间断点之间的距离;

当两个相邻的间断点之间的距离小于预设的第一距离阈值且大于预设的第二距离阈值时,执行所述将相邻的间断点之间的最短路径,确定为所述相邻的间断点之间的待填充轮廓的步骤。

3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述将相邻的间断点之间的最短路径,确定为所述相邻的间断点之间的待填充轮廓的步骤,包括:

使用迪杰斯特拉算法确定两个相邻的间断点之间的最短路径,并将所述最短路径确定为所述两个间断点之间的待填充轮廓。

4.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,在所述计算两个相邻的间断点之间的距离的步骤之后,所述方法还包括:

当两个相邻的间断点之间的距离等于所述第二距离阈值时,使用预设的膨胀腐蚀方法,填充相邻的间断点之间缺失的像素点。

5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,所述使用预设的膨胀腐蚀方法,填充相邻的间断点之间缺失的像素点的步骤,包括:

根据预设的膨胀矩阵,分别以两个相邻的间断点以及与两个相邻的间断点邻近的像素点的位置为中心进行膨胀处理,以填充膨胀区域内的像素点;

根据预设的腐蚀矩阵,分别以两个相邻的间断点以及与两个相邻的间断点邻近的像素点的位置为中心进行腐蚀处理,以去除腐蚀区域内的像素点。

6.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,

所述两个相邻的间断点之间的距离包括两个相邻的间断点之间的二范式距离。

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