[发明专利]大功率负载芯片在审

专利信息
申请号: 201711413526.2 申请日: 2017-12-24
公开(公告)号: CN108091625A 公开(公告)日: 2018-05-29
发明(设计)人: 樊超 申请(专利权)人: 苏州赛源微电子有限公司
主分类号: H01L23/48 分类号: H01L23/48;H01L23/64
代理公司: 北京远大卓悦知识产权代理事务所(普通合伙) 11369 代理人: 韩飞
地址: 215011 江苏省苏州*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 金属化过孔 金属带线 大功率负载 介质基片 介质区域 金属区域 芯片 薄膜电阻层 内部设置 等效电感 高频信号 隔离作用 间隔布置 匹配阻抗 周向间隔 固定的 金属层 电性 耐受 排布 连通 保证
【权利要求书】:

1.一种大功率负载芯片,其包括介质基片(1),所述的介质基片(1)的上表面设置有第一金属带线(2)、第二金属带线(4)和长方形的薄膜电阻层(3),薄膜电阻层(3)设置于第一金属带线(2)和第二金属带线(4)之间,且分别与第一金属带线(2)和第二金属带线(4)电连接;所述介质基片(1)的下表面设置有金属层,介质基片(1)内部设置有多个用于连通金属层和第二金属带线(4)的金属化过孔(5),其特征在于:所述金属化过孔(5)包括金属区域(51)和介质区域(52),所述金属区域(51)和所述介质区域(52)沿所述金属化过孔(5)的周向间隔排布。

2.根据权利要求1所述的大功率负载芯片,其特征在于:所述金属区域(51)和所述介质区域(52)均为符合金属化过孔(5)的弧度的片状长方形。

3.根据权利要求2所述的大功率负载芯片,其特征在于:所述金属区域(51)和所述介质区域(52)的轴线均垂直所述介质基片(1)的上下表面。

4.根据权利要求3所述的大功率负载芯片,其特征在于:所述第二金属带线(4)上还设置有与金属化过孔(5)配合的小孔(6),第二金属带线(4)上的小孔(6)与所述金属化过孔(5)连通。

5.根据权利要求4所述的大功率负载芯片,其特征在于:所述第二金属带线(4)上的小孔(6)与所述金属化过孔(5)个数相同且一一对应。

6.根据权利要求5所述的大功率负载芯片,其特征在于:所述第二金属带线(4)上的小孔(6)与所述金属化过孔(5)直径相等。

7.根据权利要求6所述的大功率负载芯片,其特征在于:所述金属化过孔(5)的个数为1。

8.根据权利要求1所述的大功率负载芯片,其特征在于:所述的大功率负载芯片还包括接入端口,所述接入端口与第一金属带线(2)连接。

9.根据权利要求1所述的大功率负载芯片,其特征在于:所述第一金属带线(2)与薄膜电阻层(3)之间存在第一交叠区域(7),且第一金属带线(2)与薄膜电阻层(3)通过第一交叠区域(7)实现电连接。

10.根据权利要求1所述的大功率负载芯片,其特征在于:所述第二金属带线(4)与薄膜电阻层(3)之间存在第二交叠区域(8),且第二金属带线(2)与薄膜电阻层(3)通过第一交叠区域(8)实现电连接。

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