[发明专利]基板处理装置、基板处理系统以及基板处理方法

权利要求书

1.一种基板处理装置，具备：

紫外线照射装置，位于第一处理室和第二处理室的边界，并且能够向所述第一处理室和所述第二处理室照射紫外线；

第一基板保持装置，配置于所述第一处理室，将基板保持成与所述紫外线照射装置对置；

第二基板保持装置，配置于所述第二处理室，将基板保持成与所述紫外线照射装置对置；

遮光装置，以将所述紫外线照射装置和所述第二基板保持装置之间的空间分隔为所述紫外线照射装置侧的第一空间和所述第二基板保持装置侧的第二空间的方式配置，并且遮挡来自所述紫外线照射装置的紫外线，而且使所述第一空间内的气体和所述第二空间内的气体连通；

气体供给装置，向所述第一空间供给气体；

第一移动装置，

所述遮光装置具备对紫外线具有遮光性的第一板部和第二板部，

在所述第一板部形成有至少一个第一贯通孔，

在所述第二板部形成有至少一个第二贯通孔，

所述第一板部和所述第二板部以所述至少一个第一贯通孔的位置和所述至少一个第二贯通孔的位置在与各个板面平行的方向上互相错开的配置关系，互相隔开间隔且对置配置，

所述第一移动装置使所述第一板部和所述第二板部在第一位置和第二位置之间相对地进行移动，所述第一位置是所述至少一个第一贯通孔和所述至少一个第二贯通孔互相错开的位置，所述第二位置是所述至少一个第一贯通孔和所述至少一个第二贯通孔在位置上互相对齐的位置。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，

所述至少一个第一贯通孔包括多个第一贯通孔，

所述至少一个第二贯通孔包括多个第二贯通孔，

在所述第二位置上，所述多个第一贯通孔与所述多个第二贯通孔一对一地对置。

3.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其中，还具备：

第三基板保持装置，在所述遮光装置和所述紫外线照射装置之间将基板保持成与所述紫外线照射装置对置。

4.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其中，还具备：

第一气体供给装置，向所述第一处理室供给气体。

5.一种基板处理装置，具备：

紫外线照射装置，位于第一处理室和第二处理室的边界，并且能够向所述第一处理室和所述第二处理室照射紫外线；

第一基板保持装置，配置于所述第一处理室，将基板保持成与所述紫外线照射装置对置；

第二基板保持装置，配置于所述第二处理室，将基板保持成与所述紫外线照射装置对置；

至少一个反射装置，配置于所述第一处理室和所述第二处理室中的至少任意一个处理室，并且将来自所述紫外线照射装置的紫外线向所述第一处理室和所述第二处理室中的另一个处理室反射；以及

第二移动装置，使所述至少一个反射装置在所述至少一个反射装置与所述紫外线照射装置对置的位置和所述至少一个反射装置不与所述紫外线照射装置对置的位置之间进行移动。

6.根据权利要求5所述的基板处理装置，其中，具备：

第一气体供给装置，向所述第一处理室供给气体；

第二气体供给装置，向所述第二处理室供给气体。

7.根据权利要求6所述的基板处理装置，其中，

所述第一气体供给装置和所述第二气体供给装置中的至少任意一个选择性地供给多种气体。

8.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其中，还具备：

第四基板保持装置，在所述第二基板保持装置和所述紫外线照射装置之间将未形成低电介质膜的基板保持成与所述紫外线照射装置对置，

形成有低电介质膜的基板被移交到所述第二基板保持装置，并保持成与所述紫外线照射装置对置。

9.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其中，

所述第一基板保持装置将具有形成有低电介质膜的第一主表面和未形成有低电介质膜的第二主表面的基板，保持成所述第二主表面朝向所述紫外线照射装置的姿势。