[发明专利]一种抛光液供给装置及系统

说明书

本发明提供了一种抛光液供给装置及系统，抛光液供给装置，其特征在于，包括：抛光液供给模块和抛光液供给管路；所述抛光液供给模块包括：供液管路、回流管路和并联管路；所述供液管路的进液口与抛光液供给源连接；所述供液管路的出液口分别与所述回流管路的回流口和并联管路的进口连通；所述并联管路的出口与所述抛光液供给管路入口连通；所述回流管路用于流经所述供液管路的部分或者全部抛光液不参与抛光作业直接回流排出。本发明通过设置回流管路，将部分抛光液分流并回流到原供液端，由此可保证无论是否进行抛光作业，供液管路中的抛光液始终保持流动状态，从而可以有效避免抛光液凝固，堵塞供液管路。

技术领域

本发明涉及化学机械抛光技术领域，尤其是涉及一种用于化学机械抛光设备的抛光液供给装置及系统。

背景技术

化学机械抛光是一种平坦化制程，其涉及以含有抛光研磨成分的化学浆料对可旋转的抛光垫进行润湿，并且利用该润湿的抛光垫对衬底前表面进行机械抛光。在抛光期间，需要通过抛光液供液装置将抛光浆料分配到抛光垫上，利用承载件和抛光垫之间的力以及它们之间的相对旋转与抛光浆料的机械和化学效应的结合来抛光或平坦化衬底表面。

在化学机械抛光中使用的抛光液，含有化学液及金属磨粒，另外，从抛光液厂务供液端到抛光浆料分配到抛光垫的出口端之间的管路较长，中间经历的元器件较多，抛光液在供液传递的管路上易出现凝结。

现有的抛光液供液管路易出现凝结或堵塞，易引起供液管路上的阀体损坏，从而影响正常的抛光工作，降低工作效率。

发明内容

本发明的目的在于提供一种抛光液供给装置及系统，以解决现有技术中存在的抛光液供液管路易出现凝结或堵塞，易引起供液管路上的阀体损坏，从而影响正常的抛光工作，降低工作效率的技术问题。

为解决上述技术问题，本发明提供的一种抛光液供给装置，包括：抛光液供给模块和抛光液供给管路；

所述抛光液供给模块包括：供液管路、回流管路和并联管路；

所述供液管路的进液口与抛光液供给源连接；

所述供液管路的出液口分别与所述回流管路的回流口和并联管路的进口连通；

所述并联管路的出口与所述抛光液供给管路入口连通；

所述回流管路用于流经所述供液管路的部分或者全部抛光液不参与抛光作业直接回流排出。

其中优选地，所述回流管路的出口通过管路与抛光液存储装置(例如储液箱体等)连接。

所述供液管路的出液口、回流管路的回流口以及并联管路的进口分别与三通接头的三个接口连接；供液管路、回流管路和并联管路通过三通接头彼此连通。

其中抛光液供给源通常包括泵体、抛光液存储装置以及相应管路。

所述抛光液供给管路的入口与所述并联管路连通，出口设置在抛光台处，用于将抛光液引流到抛光设备的抛光垫上。

本发明通过设置回流管路，将部分抛光液分流并回流到原供液端，由此可保证无论是否进行抛光作业，供液管路中的抛光液始终保持流动状态，从而可以有效避免抛光液凝固，堵塞供液管路。

进一步地，所述回流管路上设置有节流阀或者流量调节阀，用于通过调控回流管路内的回流量来调节所述并联管路内的液压，进而防止抛光液供给不足或者供给压力过大，由此可以使得流入所述供液管路内的部分抛光液或全部抛光液通过所述并联管路流入所述抛光液供给管路内用于抛光作业，另一部分抛光液或没有抛光液通过所述回流管路回流排出；

或者，所述回流管路的内径小于所述供液管路的内径，用于使得所述并联管路内的液压足够大进而顺利为所述抛光液供给管路供给抛光液。

进一步地，所述供液管路上设置有供液控制阀；