[发明专利]基板处理装置、基板处理方法和基板处理系统

权利要求书

1.一种基板处理装置，其中，具备：

基板保持台，具有载置基板的第一上表面和侧表面；

紫外线照射机构，在载置于所述基板保持台的所述第一上表面的所述基板的上方以隔着作用空间与所述基板相对的方式配置，并向所述基板照射紫外线；

筒构件，具有包围所述基板保持台的所述侧表面的整周的内周面，在所述内周面与所述基板保持台的所述侧表面之间形成有与所述作用空间连通的环空间；

第一气体供给机构，向所述环空间供给气体；以及

第二气体供给机构，向在所述基板和所述紫外线照射机构之间形成的所述作用空间供给气体，

所述筒构件在所述内周面中的与所述侧表面相对的至少一个位置上具有至少一个侧方开口部，所述第一气体供给机构经由至少一个所述侧方开口部，向所述环空间供给作为向所述作用空间流动的气体的阻碍壁发挥功能的气体。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，

所述筒构件的所述内周面包括第一槽，所述第一槽沿所述内周面的周向延伸，

至少一个所述侧方开口部形成于所述第一槽。

3.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其中，

至少一个所述侧方开口部沿所述内周面的周向开口。

4.根据权利要求3所述的基板处理装置，其中，

至少一个所述侧方开口部包括多个侧方开口部，

多个所述侧方开口部在所述内周面的周向上隔着间隔排列。

5.根据权利要求4所述的基板处理装置，其中，

多个所述侧方开口部各自的开口轴的方向，与所述周向的顺时针和逆时针中的一个转向一致。

6.根据权利要求5所述的基板处理装置，其中，还具备：

旋转机构，以与基板的主面垂直的轴为旋转轴，使所述基板保持台向所述一个转向旋转。

7.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，

至少一个所述侧方开口部包括至少一个第一层开口部和至少一个第二层开口部，

在所述紫外线照射机构和所述基板保持台排列的方向上，至少一个所述第一层开口部形成于与至少一个所述第二层开口部不同的位置。

8.根据权利要求7所述的基板处理装置，其中，

至少一个第一层开口部包括多个第一层开口部，

至少一个第二层开口部包括多个第二层开口部，

多个所述第一层开口部在所述内周面的周向上隔着间隔排列，并且，

多个所述第二层开口部分别在所述周向上形成于与所述第一层开口部不同的位置，

所述第一层开口部和所述第二层开口部各自的开口轴的方向，与所述周向的顺时针和逆时针中的一个转向一致。

9.根据权利要求7或8所述的基板处理装置，其中，

所述筒构件的所述内周面还包括第一槽和第二槽，所述第一槽沿所述内周面的周向延伸，所述第二槽沿所述内周面的周向延伸，

在所述紫外线照射机构和所述基板保持台排列的方向上，所述第一槽和所述第二槽形成于彼此不同的位置，

至少一个所述第一层开口部形成于所述第一槽，

至少一个所述第二层开口部形成于所述第二槽。

10.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，

所述筒构件还具有至少一个供气开口部，所述供气开口部向基板和所述紫外线照射机构之间的所述作用空间供给气体。

11.根据权利要求10所述的基板处理装置，其中，

至少一个所述供气开口部包括多个供气开口部，

所述筒构件具有第二上表面，所述第二上表面隔着空隙与所述紫外线照射机构相对，

多个所述供气开口部形成于所述第二上表面，并在所述内周面的周向上彼此隔开间隔。