[发明专利]气体处理装置和气体处理方法

权利要求书

1.一种气体处理装置，其对真空气氛的处理室内的基板供给处理气体来进行处理，所述气体处理装置的特征在于，包括：

设置在所述处理室中的用于载置所述基板的载置部；

气体扩散板，其构成位于所述载置部的上方侧的顶部，形成有用于将所述处理气体以喷淋状喷出的多个气体喷出孔；

多个气体分散部，其在所述气体扩散板的上方侧设置在隔着所述处理气体的扩散空间与所述气体扩散板相对的相对部，且为了使所述处理气体在横向上分散于所述扩散空间中而沿周向分别形成有多个气体排出口；和

所述处理气体的流路，其上游侧形成各所述气体分散部共用的共用流路，中途分支成多个流路，下游侧与各该气体分散部连接，并且从所述共用流路至各气体分散部的长度相互一致，

所述气体分散部以如下布局配置：在俯视所述扩散空间时，所述气体分散部沿着多个第一圆配置，且在每一个所述第一圆上以所述气体分散部与所述扩散空间的中心部的距离相互不同的方式配置有多个，其中，所述多个第一圆的中心分别绕该扩散空间的中心部设置，且所述多个第一圆沿着所述扩散空间的周向配置。

2.如权利要求1所述的气体处理装置，其特征在于，还包括：

所述流路形成为从所述共用流路至所述气体分散部以决定比赛的组合的图线状分阶段地分支。

3.如权利要求1或2所述的气体处理装置，其特征在于：

沿一个所述第一圆配置3个以上的所述气体分散部。

4.如权利要求1至3任一项所述的气体处理装置，其特征在于：

沿各第一圆配置的多个所述气体分散部沿着中心位于所述扩散空间的中心部的第二圆配置。

5.如权利要求1至4任一项所述的气体处理装置，其特征在于：

所述气体扩散板包括与所述载置台的中心部相对的第一相对区域和与所述载置台的周缘部相对的第二相对区域，

所述第一相对区域中的相邻的所述气体喷出孔彼此的间隔大于所述第二相对区域中的相邻的所述气体喷出孔彼此的间隔。

6.一种气体处理方法，其对真空气氛的处理室内的基板供给处理气体来进行处理，所述气体处理方法的特征在于，包括：

在设置于所述处理室中的载置部载置所述基板的步骤；

将所述处理气体从形成于气体扩散板的多个气体喷出孔以喷淋状喷出的步骤，其中，所述气体扩散板构成位于所述载置部的上方侧的顶部；

使所述处理气体从多个气体分散部在横向上排出并分散于所述扩散空间中的步骤，其中，所述多个气体分散部在所述气体扩散板的上方侧设置在隔着所述处理气体的扩散空间与所述气体扩散板相对的相对部，沿周向分别形成有多个气体排出口；和

向流路供给所述处理气体的步骤，其中，所述流路，其上游侧形成各所述气体分散部共用的共用流路，中途分支成多个流路，下游侧与各该气体分散部连接，并且从所述共用流路至各气体分散部的长度相互一致，

所述气体分散部以如下布局配置：在俯视所述扩散空间时，所述气体分散部沿着多个圆配置，且在每一个所述圆上以所述气体分散部与所述扩散空间的中心部的距离相互不同的方式配置有多个，其中，所述多个圆的中心分别绕该扩散空间的中心部设置，且所述多个圆沿着所述扩散空间的周向配置。