[发明专利]阵列基板及其制造方法、液晶显示面板及其制造方法

权利要求书

1.一种阵列基板，其特征在于，包括：

基底；

黑色遮光层，设置在所述基底上；

第一金属层，对应设置在所述黑色遮光层上，从而所述黑色遮光层位于所述基底和所述第一金属层之间；

有源材料层，设置在所述第一金属层上；

第二金属层，设置在所述有源材料层上；

保护层，设置在所述第二金属层上且其上设置有接触孔；

色阻材料层，设置在所述保护层上；以及

像素电极层，设置在色阻材料层上且通过所述接触孔连接所述第二金属层。

2.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述第一金属层包括：主动开关元件的栅极和用于与所述像素电极层形成存储电容的屏蔽金属。

3.如权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述有源材料层包括：所述主动开关元件的栅极绝缘层、半导体层和欧姆接触层，所述栅极绝缘层、所述半导体层和所述欧姆接触层依序层叠设置。

4.如权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述第二金属层包括：所述主动开关元件的源极、所述主动开关元件的与所述像素电极层连接的漏极以及与所述源极连接的数据线。

5.如权利要求4所述的阵列基板，其特征在于，所述色阻材料层包括：红色色阻块、绿色色阻块和蓝色色阻块；所述像素电极层包括：与所述红色色阻块、所述绿色色阻块和所述蓝色色阻块一一对应且由透明导电材料制成的多个像素电极。

6.如权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，所述屏蔽金属环绕所述像素电极并与所述像素电极平行于所述数据线的两边缘部分重叠，且所述屏蔽金属与所述数据线在垂直于所述数据线的方向上存在间隙。

7.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述黑色遮光层的材料为含碳黑的黑色光阻。

8.一种液晶显示面板，其特征在于，包括：

如权利要求1-7任意一项所述的阵列基板；

对向基板，与所述阵列基板相对设置；

液晶层，设置在所述阵列基板和所述对向基板之间；

框胶，设置在所述阵列基板和所述对向基板之间并环绕所述液晶层；

其中，所述对向基板包括：

第二基底；

黑色矩阵层，设置在所述第二基底面向所述阵列基板的一侧；以及

公共电极层，设置在所述黑色矩阵层面向所述阵列基板的一侧。

9.如权利要求8所述的液晶显示面板，其特征在于，所述黑色遮光层的材料和所述黑色矩阵层的材料相同。

10.一种阵列基板的制造方法，其特征在于，包括步骤：

在基底上形成黑色遮光层和第一金属层，从而所述黑色遮光层位于所述基底与所述第一金属层之间；

在所述第一金属层上形成有源材料层；

在所述有源材料层上形成第二金属层；

在所述第二金属层上形成保护层并在所述保护层中形成接触孔；

在所述保护层上形成色阻材料层；

在所述色阻材料层上形成像素电极层、并使所述像素电极层通过所述接触孔连接所述第二金属层。

11.如权利要求10所述的阵列基板的制造方法，其特征在于，形成所述黑色遮光层和形成所述第一金属层为共用同一道光罩制程。

12.如权利要求10所述的阵列基板的制造方法，其特征在于，在基底上形成黑色遮光层和第一金属层，从而所述黑色遮光层位于所述基底与所述第一金属层之间包括：

在所述基底上形成黑色遮光材料层；

在所述黑色遮光材料层上形成金属材料层；

在所述金属材料层上形成光阻材料层；

利用光罩对所述光阻材料层进行曝光显影以得到图案化光阻材料层；

以所述图案化光阻材料层为掩膜对所述金属材料层和所述黑色遮光材料层依序进行湿蚀刻和干蚀刻；以及

在所述干蚀刻后去除残余的光阻材料层，以得到所述黑色遮光层和第一金属层。