[发明专利]一种去除二氧化硅颗粒的抛光液在审
| 申请号： | 201711391805.3 | 申请日： | 2017-12-21 |
| 公开（公告）号： | CN108102554A | 公开（公告）日： | 2018-06-01 |
| 发明（设计）人： | 杨三贵;刘治州;康徐芳 | 申请（专利权）人： | 北京世纪金光半导体有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/18 | 分类号： | C09G1/18 |
| 代理公司： | 北京中创阳光知识产权代理有限责任公司 11003 | 代理人： | 张宇锋 |
| 地址： | 100176 北京市大*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 去除 衬底表面 抛光液 二氧化硅颗粒 粗糙度 碳化硅 衬底 非离子性表面活性剂 二丙二醇甲醚 原子力显微镜 丙二醇甲醚 分析仪检测 光学表面 去离子水 有效面积 抛光 混合液 异丙醇 乙醇 划痕 清洗 残留 检测 加工 | ||
【权利要求书】：
1.一种去除二氧化硅颗粒的抛光液，其特征在于，所述抛光液包括两种成分，其中，成分一为异丙醇、二丙二醇甲醚、丙二醇甲醚、乙醇、非离子性表面活性剂以及PH调节剂的混合液；成分二为去离子水。
2.根据权利要求1所述的去除二氧化硅颗粒的抛光液，其特征在于，所述抛光液中所述成分一的体积比为8～25％；成分二75～92％。
3.根据权利要求1所述的去除二氧化硅颗粒的抛光液，其特征在于，所述成分一中所述异丙醇、二丙二醇甲醚、丙二醇甲醚、乙醇、非离子性表面活性剂以及PH调节剂的体积比分别为2～5％、5～10％、5～10％、15～20％、>58％和3～5％。
4.根据权利要求1所述的去除二氧化硅颗粒的抛光液，其特征在于，所述成分一的PH值为13.0～14.0。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京世纪金光半导体有限公司，未经北京世纪金光半导体有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201711391805.3/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
