[发明专利]一种PERC太阳能电池及其制备方法有效
申请号: | 201711388394.2 | 申请日: | 2017-12-20 |
公开(公告)号: | CN108231917B | 公开(公告)日: | 2019-12-17 |
发明(设计)人: | 陈健生;董方 | 申请(专利权)人: | 横店集团东磁股份有限公司 |
主分类号: | H01L31/0216 | 分类号: | H01L31/0216;H01L31/18 |
代理公司: | 33109 杭州杭诚专利事务所有限公司 | 代理人: | 尉伟敏 |
地址: | 322118 *** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 背面 太阳能电池 叠层结构 硅片 沉积 激光开窗 刻蚀 制备 太阳能电池技术 电池转换效率 背面钝化层 清洗工艺 正面沉积 发射结 减反层 体钝化 背场 反射 清洗 残留 电池 生长 | ||
本发明属于太阳能电池技术领域。本发明公开了一种PERC太阳能电池,其由其包括硅片,硅片的正面沉积/生长有正面减反层,硅片的背面沉积AlOx层和背面钝化层;本发明还公开了一种PERC太阳能电池的制备方法。本发明提出的背面SiNx/SiNy周期性叠层结构,与单一的SiNx层相比,提高了体钝化和背面反射、电池Voc和Isc性能;本发明提出的后清洗工艺,在背面SiNx/SiNy周期性叠层结构沉积后实施,能有效刻蚀正面Al2O3层并不破坏背面叠层结构;在激光开窗后实施,刻蚀正面Al2O3的同时,有效清洗激光开窗造成的残留和杂质,提升局部背场质量和电池转换效率;本发明在进行背面SiNx/SiNy沉积的过程中,正面Al2O3层可以有效的保护发射结。
技术领域
本发明涉及太阳能电池技术领域,尤其是涉及一种PERC太阳能电池及其制备方法。
背景技术
随着量产关键设备和周边辅材的不断发展和成熟,PERC电池进入了一个全新的发展阶段。但在量产的过程中,以氧化铝镀膜设备为核心,不管是以德国梅耶博格和Centrotherm为代表的PECVD技术方案,还是以荷兰SoLayTec和上海理想为代表的在线式(in-line)ALD技术方案,均受制于其设备稼动率和稳定性问题;另外一种代表性的批量式(batch)ALD镀膜设备,则受制于其较为严重的绕镀问题,无法实现量产。随着技术的成熟,以韩国NCD和常州微导为代表,提出了一种双面镀膜方案,在解决了绕镀问题的同时,实现设备稼动率和稳定性的飞跃。
批量式ALD技术方案,由于正面引入了AlOx(Al2O3)层,由此也带来了电池工艺的局限性和正银接触以及可靠性等问题。由于AlOx层的固定负电荷和较低的折射率(低于SiNx、SiOxNy等),AlOx镀膜必须在正面减反层沉积后进行,而在正面减反层的沉积过程中,背面将受到一定程度的污染,影响背面AlOx的沉积效果,而且在进行背面SiNx沉积时,正面划伤的风险也相对增加;另外,由于正面AlOx的存在,对丝网印刷过程中金属/半导体接触的形成提出了更大的挑战,一定程度上限制了电池正面工艺的优化。
发明内容
为解决上述问题,本发明提供了一种PERC太阳能电池及其制备方法,在提高电池效率的同时,有效解决批量式ALD氧化铝镀膜设备双面沉积工艺带来的技术和质量问题;提高电池制备工艺的灵活性和产品可靠性,并进一步提升电池效率。
为实现上述目的,本发明采用的技术方案如下:
一种PERC太阳能电池,其包括硅片,硅片的正面沉积/生长有正面减反层,硅片的背面沉积/生长有AlOx层和背面钝化层;正面减反层为SiNx/SiNy/SiOxNy/SiOx结构;背面钝化层为SiNx/SiNy结构。
作为优选,硅片为P型硅片。
硅片为多晶硅片或单晶硅片。
作为优选,背面钝化层为以SiNx/SiNy结构为单元的单层或周期性叠层结构。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的