[发明专利]一种石英晶振片的制备方法在审

专利信息
申请号: 201711365599.9 申请日: 2017-12-18
公开(公告)号: CN108239743A 公开(公告)日: 2018-07-03
发明(设计)人: 刘勇;吴卫锋;熊正茂;唐响 申请(专利权)人: 池州市正彩电子科技有限公司
主分类号: C23C14/02 分类号: C23C14/02;C23C14/08;C23C14/18
代理公司: 合肥中博知信知识产权代理有限公司 34142 代理人: 张加宽
地址: 247000 安徽省池州*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 石英晶振片 氧化物层 制备 金属导电层 厚度监测 生产效率 晶振片 石英晶体片 镀金电极 二氧化钛 二氧化锆 高应力膜 使用寿命 低应力 镀金层 镀制 金层 膜料 酸洗 原厂 返回
【权利要求书】:

1.一种石英晶振片的制备方法,其特征在于:包括依次在石英晶体片上镀制金层,氧化物层和金属导电层;

所述氧化物层为二氧化钛或二氧化锆,该氧化物层的厚度为15~20nm;

所述金属导电层选自银、铝、锡中的一种。

2.根据权利要求1所述的石英晶振片的制备方法,其特征在于:所述金属导电层的厚度为15~20nm。

3.根据权利要求1或2所述的石英晶振片的制备方法,其特征在于:所述的制备方法具体包括:

(1)选用新的镀金晶振片,用酒精擦拭;

(2)将步骤(1)中擦拭洁净的石英晶振片放置在真空镀膜机中,在其表面镀制二氧化钛或二氧化锆薄膜;

(3)在步骤(2)的二氧化钛或二氧化锆薄膜表面再镀制金属导电层,即得所述的石英晶振片。

4.根据权利要求3所述的石英晶振片的制备方法,其特征在于:所述的步骤(1)中,用离子源轰击清洗镀金晶振片表面。

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