[发明专利]一种PCB板内层图形制作方法在审

专利信息
申请号: 201711354683.0 申请日: 2017-12-15
公开(公告)号: CN108055783A 公开(公告)日: 2018-05-18
发明(设计)人: 付凤奇;任城洵;王海洋;王俊 申请(专利权)人: 深圳市景旺电子股份有限公司
主分类号: H05K3/06 分类号: H05K3/06
代理公司: 深圳中一联合知识产权代理有限公司 44414 代理人: 张全文
地址: 518000 广东省深*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 pcb 内层 图形 制作方法
【权利要求书】:

1.一种PCB板内层图形制作方法,其特征在于:包括以下步骤;

S1、将基板自动放置到生产线上,通过在线冲孔设备在所述基板上冲制若干个对位孔;

S2、利用激光器将预先设置的二维码打印于所述基板的板边上,然后对所述基板分别经过机械磨刷和化学清洗的前处理;

S3、在前处理后的基板上涂布专用于激光成像的湿膜,然后将基板放入到隧道炉中烘烤固化;

S4、通过在线扫码设备读取所述基板上的所述二维码,并将信息反馈至LDI曝光机以实现资料的切换;

S5、通过LDI曝光机由所述对位孔对所述基板进行定位在线曝光;

S6、将曝光后的所述基板经显影、UV固化后,再蚀刻、退膜后进行在线AOI,最后自动出料。

2.如权利要求1所述的PCB板内层图形制作方法,其特征在于:于所述步骤S1中,所述对位孔的数量为多个,且多个所述对位孔均分在所述基板上,每一所述对位孔的直径均为3.175mm。

3.如权利要求1所述的PCB板内层图形制作方法,其特征在于:于所述步骤S2中,所述机械磨刷采用800~1000的目布织布进行磨刷,所述化学清洗的微蚀量为1.2~2.0μm。

4.如权利要求1所述的PCB板内层图形制作方法,其特征在于:于所述步骤S3中,所述湿膜为适用于405nm波长激光的感光湿膜,所述感光湿膜的厚度为12~14μm。

5.如权利要求1所述的PCB板内层图形制作方法,其特征在于:于所述步骤S3中,所述隧道炉中烘烤的温度为100~110℃,烘烤时间为60min。

6.如权利要求1所述的PCB板内层图形制作方法,其特征在于:于所述步骤S4和S5中,所述LDI曝光机的激光波长为405nm,曝光功率为20W,曝光能量30mj。

7.如权利要求1所述的PCB板内层图形制作方法,其特征在于:于所述步骤S6中,所述UV固化的速度为3~5m/min,所述UV固化的能量为600~800mJ/cm2

8.如权利要求1所述的PCB板内层图形制作方法,其特征在于:所述基板的上料和下料均通过机械手自动送料完成。

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