[发明专利]一种显示基板及其制备方法、显示面板在审
申请号: | 201711349263.3 | 申请日: | 2017-12-15 |
公开(公告)号: | CN108010954A | 公开(公告)日: | 2018-05-08 |
发明(设计)人: | 侯文军 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;H01L21/77 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 许静;刘伟 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 显示 及其 制备 方法 面板 | ||
1.一种显示基板,其特征在于,包括显示区和从所述显示区的至少一个边缘延伸出的非显示区;其中,所述显示区包括显示像素界定层,所述非显示区包括非显示像素界定层,所述非显示像素界定层的吸附性高于所述显示像素界定层的吸附性。
2.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述显示像素界定层的吸附性包括所述显示像素界定层对位于所述显示像素界定层中的像素材料层的吸附性;所述非显示像素界定层的吸附性包括所述非显示像素界定层对位于所述非显示像素界定层中的像素材料层的吸附性。
3.根据权利要求2所述的显示基板,其特征在于,位于所述显示像素界定层中的像素材料层与位于所述非显示像素界定层中的像素材料层具有相同的组成。
4.根据权利要求2所述的显示基板,其特征在于,所述非显示像素界定层的材料对位于所述非显示像素界定层中的像素材料层的结合力高于所述显示像素界定层的材料对位于所述显示像素界定层中的像素材料层的结合力;和/或,所述非显示像素界定层的材料的比表面积高于所述显示像素界定层的材料的比表面积。
5.根据权利要求4所述的显示基板,其特征在于,所述非显示像素界定层包括多孔结构,所述多孔结构的表面包括孔径在1nm-50nm之间的吸附孔。
6.根据权利要求5所述的显示基板,其特征在于,所述多孔结构包括基础材料层和覆盖所述基础材料层表面的多孔材料层。
7.根据权利要求5所述的显示基板,其特征在于,所述非显示像素界定层是多孔结构。
8.根据权利要求5所述的显示基板,其特征在于,所述多孔结构采用多孔材料制成,所述多孔材料的比表面积在100m
9.根据权利要求4所述的显示基板,其特征在于,所述显示像素界定层包括疏水性结构,所述疏水性结构的表面包括疏水性材料层。
10.根据权利要求9所述的显示基板,其特征在于,所述疏水性结构包括基础材料层和覆盖所述基础材料层表面的所述疏水性材料层。
11.根据权利要求9所述的显示基板,其特征在于,所述显示像素界定层是疏水性结构,所述疏水性结构由疏水性材料制成。
12.根据权利要求4所述的显示基板,其特征在于,所述非显示像素界定层的材料包括聚砜、聚乙烯基吡啶、聚酯类化合物、活性炭中的一种或多种;所述显示像素界定层的材料包括氟化聚酰亚胺、氟化聚甲基丙烯酸甲酯、聚硅氧烷、有机硅树脂中的一种或多种。
13.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述显示像素界定层形成多个显示像素隔离墙图案,所述非显示像素界定层形成多个非显示像素隔离墙图案;在所述显示区面向所述非显示区的边缘,所述显示像素界定层的显示像素隔离墙图案与相邻的所述非显示像素界定层的非显示像素隔离墙图案一一对应。
14.一种显示面板,其特征在于,包括如权利要求1~13任一项所述的显示基板,显示像素界定层形成多个显示像素隔离墙图案,每个显示像素隔离墙图案中包括显示像素单元;非显示像素界定层形成多个非显示像素隔离墙图案,每个非显示像素隔离墙图案中包括非显示像素单元;显示像素单元和非显示像素单元包括像素材料。
15.根据权利要求14所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板为自发光显示面板,所述像素材料包括自发光材料的墨水。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的