[发明专利]可提高抛光性能的化学机械抛光方法在审
| 申请号： | 201711348564.4 | 申请日： | 2017-12-15 |
| 公开（公告）号： | CN109926910A | 公开（公告）日： | 2019-06-25 |
| 发明（设计）人： | 潘继东 | 申请（专利权）人： | 新昌县新崎制冷设备有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/04 | 分类号： | B24B37/04 |
| 代理公司： | 天津企兴智财知识产权代理有限公司 12226 | 代理人： | 韩敏 |
| 地址： | 312500 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 抛光 抛光性能 化学机械抛光 抛光终点 检测 统计 | ||
1.一种可提高抛光性能的化学机械抛光方法，其特征在于：该方法包括第一阶段抛光、第二阶段抛光和第三阶段抛光，该方法包括以下步骤：
步骤1：统计得出第一阶段抛光、第二阶段抛光和第三阶段抛光的总时间；
步骤2：将第一阶段抛光时间设定为总时间的60-70％，将第二阶段抛光时间设定为总时间的20-30％，并且按照设定时间进行抛光；
步骤3：进行第三阶段抛光并检测抛光终点，在检测到抛光终点时停止抛光。
2.根据权利要求1所述的可提高抛光性能的化学机械抛光方法，其特征在于：通过统计实际抛光过程的抛光时间得出第一阶段抛光、第二阶段抛光和第三阶段抛光的总时间为100秒。
3.根据权利要求1所述的可提高抛光性能的化学机械抛光方法，其特征在于：该抛光层为钨膜。
4.根据权利要求3所述的可提高抛光性能的化学机械抛光方法，其特征在于：第一阶段抛光压力为25-30KPa，抛光时间为60秒，第二阶段抛光压力为15-20KPa，抛光时间为25秒，第三阶段抛光压力为10KPa，抛光时间为15秒。
5.根据权利要求1所述的可提高抛光性能的化学机械抛光方法，其特征在于：该抛光层为铜膜。
6.根据权利要求5所述的可提高抛光性能的化学机械抛光方法，其特征在于：第一阶段抛光压力为15-25KPa，抛光时间为60秒，第二阶段抛光压力为10-15KPa，抛光时间为25秒，第三阶段抛光压力为5KPa，抛光时间为15秒。
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