[发明专利]匹多莫德缩合杂质的去除工艺有效
申请号: | 201711341322.2 | 申请日: | 2017-12-14 |
公开(公告)号: | CN108003221B | 公开(公告)日: | 2020-08-11 |
发明(设计)人: | 张彤;孙滨;许蕾;周海洋;马庆双;王晓光 | 申请(专利权)人: | 北京金城泰尔制药有限公司 |
主分类号: | C07K5/078 | 分类号: | C07K5/078;C07K1/12;C07K1/02 |
代理公司: | 淄博启智达知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 37280 | 代理人: | 王燕 |
地址: | 101399 北京市顺义*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 匹多莫德 缩合 杂质 去除 工艺 | ||
1.一种匹多莫德缩合杂质的去除工艺,其特征在于包括以下步骤:
(1)将L-噻唑烷-4-羧酸乙酯盐酸盐加入到二氯甲烷中,加入碱;再加入L-焦谷氨酸;
(2)滴加二环己基碳二亚胺,反应,过滤不溶于二氯甲烷的二环己基脲,得到含有二环己基脲的二氯甲烷母液;
(3)向含有二环己基脲的二氯甲烷母液中加入氢氧化钠水溶液水解,水解完成,分液得到水相;
(4)将水相经过大孔树脂填料柱循环处理,处理完毕,收集得到的水相,加入盐酸得到匹多莫德;
循环处理步骤如下:
(1)首先将水相的温度控制在0-20℃,经大孔树脂填料柱循环处理1-2小时;
(2)再将水相的温度控制在25-35℃,经大孔树脂填料柱循环处理1-3小时;
(3)最后将水相的温度控制在40-50℃,经大孔树脂填料柱循环处理1-2小时。
2.根据权利要求1所述的匹多莫德缩合杂质的去除工艺,其特征在于:水解时间为3-10小时。
3.根据权利要求1所述的匹多莫德缩合杂质的去除工艺,其特征在于:大孔树脂用量为缩合剂二环己基碳二亚胺投料质量的1-50倍。
4.根据权利要求1所述的匹多莫德缩合杂质的去除工艺,其特征在于:大孔树脂的型号为LSI-004、LSI-210、LSI-010或LSD-001。
5.根据权利要求1所述的匹多莫德缩合杂质的去除工艺,其特征在于:循环处理温度为0-50℃,循环处理时间为10-50小时。
6.根据权利要求5所述的匹多莫德缩合杂质的去除工艺,其特征在于:循环处理温度为10-30℃,循环处理时间为15-30小时。
7.根据权利要求1所述的匹多莫德缩合杂质的去除工艺,其特征在于:循环处理步骤如下:
(1)首先将水相的温度控制在5-15℃,经大孔树脂填料柱循环处理1-1.5小时;
(2)再将水相的温度控制在25-30℃,经大孔树脂填料柱循环处理1-2小时;
(3)最后将水相的温度控制在45-50℃,经大孔树脂填料柱循环处理1-1.5小时。
8.根据权利要求1所述的匹多莫德缩合杂质的去除工艺,其特征在于:步骤(2)中,反应温度为0-25℃,反应时间为3-10小时。
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