[发明专利]匹多莫德缩合杂质的去除工艺有效

专利信息
申请号: 201711341322.2 申请日: 2017-12-14
公开(公告)号: CN108003221B 公开(公告)日: 2020-08-11
发明(设计)人: 张彤;孙滨;许蕾;周海洋;马庆双;王晓光 申请(专利权)人: 北京金城泰尔制药有限公司
主分类号: C07K5/078 分类号: C07K5/078;C07K1/12;C07K1/02
代理公司: 淄博启智达知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 37280 代理人: 王燕
地址: 101399 北京市顺义*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 匹多莫德 缩合 杂质 去除 工艺
【权利要求书】:

1.一种匹多莫德缩合杂质的去除工艺,其特征在于包括以下步骤:

(1)将L-噻唑烷-4-羧酸乙酯盐酸盐加入到二氯甲烷中,加入碱;再加入L-焦谷氨酸;

(2)滴加二环己基碳二亚胺,反应,过滤不溶于二氯甲烷的二环己基脲,得到含有二环己基脲的二氯甲烷母液;

(3)向含有二环己基脲的二氯甲烷母液中加入氢氧化钠水溶液水解,水解完成,分液得到水相;

(4)将水相经过大孔树脂填料柱循环处理,处理完毕,收集得到的水相,加入盐酸得到匹多莫德;

循环处理步骤如下:

(1)首先将水相的温度控制在0-20℃,经大孔树脂填料柱循环处理1-2小时;

(2)再将水相的温度控制在25-35℃,经大孔树脂填料柱循环处理1-3小时;

(3)最后将水相的温度控制在40-50℃,经大孔树脂填料柱循环处理1-2小时。

2.根据权利要求1所述的匹多莫德缩合杂质的去除工艺,其特征在于:水解时间为3-10小时。

3.根据权利要求1所述的匹多莫德缩合杂质的去除工艺,其特征在于:大孔树脂用量为缩合剂二环己基碳二亚胺投料质量的1-50倍。

4.根据权利要求1所述的匹多莫德缩合杂质的去除工艺,其特征在于:大孔树脂的型号为LSI-004、LSI-210、LSI-010或LSD-001。

5.根据权利要求1所述的匹多莫德缩合杂质的去除工艺,其特征在于:循环处理温度为0-50℃,循环处理时间为10-50小时。

6.根据权利要求5所述的匹多莫德缩合杂质的去除工艺,其特征在于:循环处理温度为10-30℃,循环处理时间为15-30小时。

7.根据权利要求1所述的匹多莫德缩合杂质的去除工艺,其特征在于:循环处理步骤如下:

(1)首先将水相的温度控制在5-15℃,经大孔树脂填料柱循环处理1-1.5小时;

(2)再将水相的温度控制在25-30℃,经大孔树脂填料柱循环处理1-2小时;

(3)最后将水相的温度控制在45-50℃,经大孔树脂填料柱循环处理1-1.5小时。

8.根据权利要求1所述的匹多莫德缩合杂质的去除工艺,其特征在于:步骤(2)中,反应温度为0-25℃,反应时间为3-10小时。

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