[发明专利]一种清除杂质的方法和装置

说明书

本发明提供的一种清除杂质的方法和装置，相对于现有烫平辊在工作时，烫平辊两端出现溢胶现象，当溢胶达到一定程度时，会影响产品的质量的问题；本发明提供的清除杂质的方法和装置，通过设定烫平辊两端溢胶量的上限阈值和下限阈值；获取烫平辊两端溢胶量；当烫平辊两端溢胶量≥溢胶量上限阈值时，开启清洁工序；增加清洗溶剂，使清洁溶剂达到容器上限；将清洁溶剂喷射至清洁工具；清洁烫平辊两端溢胶量；当烫平辊两端溢胶量低于溢胶量的下限阈值时，停止清洗等步骤，可以有效清洁烫平辊两端的溢胶，避免因溢胶影响设备生产的产品质量，避免浪费。

技术领域

本发明涉及清洁领域，尤其涉及一种清除杂质的方法和装置。

背景技术

模压机生产薄膜需要通过放卷装置、一版模压装置、二版膜压装置、烫平装置以及收卷装置。放卷装置的辊子上放置涂布膜，膜上面有镭射承载层膜；一版模压装置作用是是形成部分有镭射图案的膜；二版膜压装置作用是进行补偿模压，使得整张膜都有镭射图案；烫平装置主要部件是烫平辊，其作用是因为一版模压装置和二版膜压装置在模压过程中冷热辊控制即拉伸情况不一样，致使产品上有皱印，需要烫平皱印；收卷装置回收薄膜成品。

目前，烫平辊在工作时，烫平辊两端出现溢胶现象，当溢胶达到一定程度时，会影响产品的质量。

发明内容

本发明目的在于提供一种清除杂质的方法和装置，以解决现有烫平辊在工作时，烫平辊两端出现溢胶现象，当溢胶达到一定程度时，会影响产品的质量的问题。

本发明提供了如下技术方案：

第一方面，本申请实施例提供一种清除杂质的方法，所述方法包括：

步骤S101：设定烫平辊两端溢胶量的上限阈值和下限阈值；

步骤S102：获取烫平辊两端溢胶量；

步骤S103：当烫平辊两端溢胶量≥溢胶量上限阈值时，开启清洁工序；

步骤S104：增加清洗溶剂，使清洁溶剂达到容器上限；

步骤S105：将清洁溶剂喷射至清洁工具；

步骤S106：清洁烫平辊两端溢胶量；

步骤S107：当烫平辊两端溢胶量低于溢胶量的下限阈值时，停止清洗。

结合本申请的第一方面，在本申请第一方面的第二种可实施方式中，所述方法还包括：步骤S108：记录清洗溶剂使用量。

结合本申请的第一方面，在本申请第一方面的第三种可实施方式中，所述方法还包括：步骤S109：上传数据，并对数据进行分析。

结合本申请的第一方面，在本申请第一方面的第四种可实施方式中，步骤S110：根据分析数据结果，分析出合理溢胶量的上限阈值和下限阈值。

第二方面，本申请实施例提供一种清除杂质的装置，包括：

设定单元，用于设定烫平辊两端溢胶量的上限阈值和下限阈值；

获取单元，用于获取烫平辊两端溢胶量；

起动单元，用于当烫平辊两端溢胶量≥溢胶量上限阈值时，开启清洁工序；

增量单元，用于增加清洗溶剂，使清洁溶剂达到容器上限；

喷射单元，用于将清洁溶剂喷射至清洁工具；

清洁单元，用于清洁烫平辊两端溢胶量；

停止单元，用于当烫平辊两端溢胶量低于溢胶量的下限阈值时，停止清洗。

结合本申请的第二方面，在本申请第二方面的第二种可实施方式中，所述装置还包括：记录单元，用于记录清洗溶剂使用量。