[发明专利]一种清除杂质的方法和装置

权利要求书

1.一种清除杂质的方法，其特征在于，所述方法包括：

步骤S101：设定烫平辊两端溢胶量的上限阈值和下限阈值；

步骤S102：获取烫平辊两端溢胶量；

步骤S103：当烫平辊两端溢胶量≥溢胶量上限阈值时，开启清洁工序；

步骤S104：增加清洗溶剂，使清洁溶剂达到容器上限；

步骤S105：将清洁溶剂喷射至清洁工具；

步骤S106：清洁烫平辊两端溢胶量；

步骤S107：当烫平辊两端溢胶量低于溢胶量的下限阈值时，停止清洗。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：步骤S108：记录清洗溶剂使用量。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：步骤S109：上传数据，并对数据进行分析。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：步骤S110：根据分析数据结果，分析出合理溢胶量的上限阈值和下限阈值。

5.一种清除杂质的装置，其特征在于，包括：

设定单元，用于设定烫平辊两端溢胶量的上限阈值和下限阈值；

获取单元，用于获取烫平辊两端溢胶量；

起动单元，用于当烫平辊两端溢胶量≥溢胶量上限阈值时，开启清洁工序；

增量单元，用于增加清洗溶剂，使清洁溶剂达到容器上限；

喷射单元，用于将清洁溶剂喷射至清洁工具；

清洁单元，用于清洁烫平辊两端溢胶量；

停止单元，用于当烫平辊两端溢胶量低于溢胶量的下限阈值时，停止清洗。

6.根据权利要求5所述的装置，其特征在于，所述装置还包括：记录单元，用于记录清洗溶剂使用量。

7.根据权利要求6所述的装置，其特征在于，所述装置还包括：处理单元，用于上传数据，并对数据进行分析。

8.根据权利要求7所述的装置，其特征在于，所述装置还包括：分析单元，用于根据分析数据结果，分析出合理溢胶量的上限阈值和下限阈值。