[发明专利]一种玻璃基板薄化工艺蚀刻液

说明书

技术领域

本发明涉及玻璃基板减薄生产技术领域，尤其是涉及一种玻璃基板薄化工艺蚀刻液。

背景技术

平板显示领域中，包括等离子体显示、触摸屏、液晶显示等制备工艺过程中，为了进一步减轻显示器件的重量，生产厂家越来越多的采用将玻璃基板进行减薄的方法。玻璃基板减薄的方法通常有两种，一种是物理抛光研磨，另一种是化学蚀刻减薄，其中，化学蚀刻减薄是最为广泛应用的。目前，所使用的减薄蚀刻液基板采用的都是以氢氟酸为主要成分，但氢氟酸的毒性大、易挥发，尤其是在配置时需采用较高的温度和浓度，不仅生产过程中危险性高，而且会对环境造成巨大污染。

发明内容

有鉴于此，本发明旨在提出一种玻璃基板薄化工艺蚀刻液，通过优化配方，减少了氢氟酸的用量，同时添加了一些有利的辅剂，避免了上述问题。

为达到上述目的，本发明的技术方案是这样实现的：

一种玻璃基板薄化工艺蚀刻液，该蚀刻液由包括如下重量百分比的原料制备得到：HF:1-5％，氟化物:10-25％，强酸:5-10％，乙二胺四乙酸(EDTA)或乙二胺四乙酸盐(EDTA盐)：1-5％，表面活性剂:1-2％，乙醇:1-2％，及余量的水。

进一步，该蚀刻液由包括如下重量百分比的原料制备得到：HF:3-5％，氟化物:15-25％，强酸:5-10％，乙二胺四乙酸(EDTA)或乙二胺四乙酸盐(EDTA盐)：3-5％，表面活性剂:1-2％，乙醇:1-2％，及余量的水。

进一步，所述氟化物为氟化钠。

进一步，所述强酸为盐酸或硫酸或硝酸中的一种或几种。

进一步，所述表面活性剂为十二烷基硫酸钠、十六烷基硫酸钠、十八烷基硫酸钠、二辛基琥珀酸磺酸钠、十二烷基苯磺酸钠、聚氧乙烯脱水山梨醇单月桂酸酯、聚氧乙烯脱水山梨醇单棕榈酸酯、聚氧乙烯脱水山梨醇单硬脂酸酯中的一种或几种。

进一步，所述乙二胺四乙酸盐(EDTA盐)为乙二胺四乙酸二钠盐(EDTA二钠盐)或乙二胺四乙酸四钠盐(EDTA四钠盐)。

进一步，该蚀刻液由包括如下步骤的制备方法制备得到：

(1)将氟化物、乙二胺四乙酸(EDTA)或乙二胺四乙酸盐(EDTA盐)加入水中，搅拌使其完全溶解；

(2)将HF和强酸混合后加入步骤(1)得到的水溶液中稀释；

(3)然后依次将乙醇和表面活性剂加入步骤(2)得到的溶液中，搅拌均匀。

相对于现有技术，本发明所述的玻璃基板薄化工艺蚀刻液具有以下优势：

本发明所述的玻璃基板薄化工艺蚀刻液设计了全新的蚀刻液配方，减少了氢氟酸的用量，添加了安全性更高的氟化物，大大降低了蚀刻液的毒性；添加的强酸能够与玻璃成分中的阳离子结合，溶解蚀刻过程中产生的沉淀物；乙二胺四乙酸(EDTA)或乙二胺四乙酸盐(EDTA盐)是良好的金属螯合剂，能够与蚀刻时产生的金属离子形成螯合物，更容易被水溶解，从而解决了时刻过程中副产物难溶的问题，避免产物附着在玻璃基板表面，提高了蚀刻速率和蚀刻效果；表面活性剂也能够对玻璃表面起到清洁的作用。

具体实施方式

需要说明的是，在不冲突的情况下，本发明中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。

下面将结合实施例来详细说明本发明。

实施例1

一种玻璃基板薄化工艺蚀刻液，该蚀刻液由包括如表1所示的重量百分比的原料制备得到：

表1实施例1的蚀刻液的配方

实施例2

一种玻璃基板薄化工艺蚀刻液，该蚀刻液由包括如表2所示的重量百分比的原料制备得到：

表2实施例2的蚀刻液的配方

实施例3

一种玻璃基板薄化工艺蚀刻液，该蚀刻液由包括如表3所示的重量百分比的原料制备得到：

表3实施例3的蚀刻液的配方

实施例4

一种玻璃基板薄化工艺蚀刻液，该蚀刻液由包括如表4所示的重量百分比的原料制备得到：

表4实施例4的蚀刻液的配方

实施例1-4所述的玻璃基板薄化工艺蚀刻液由包括如下步骤的制备方法制备得到：

(1)将氟化物、乙二胺四乙酸(EDTA)或乙二胺四乙酸盐加入水中，搅拌使其完全溶解；

(2)将HF和强酸混合后加入步骤(1)得到的水溶液中稀释；

(3)然后依次将乙醇和表面活性剂加入步骤(2)得到的溶液中，搅拌均匀。