[发明专利]一种大尺寸、高性能六硼化镧单晶的制备方法有效
申请号: | 201711338440.8 | 申请日: | 2017-12-14 |
公开(公告)号: | CN108048907B | 公开(公告)日: | 2020-08-07 |
发明(设计)人: | 张久兴;杨新宇;王衍;赵晶晶;李志 | 申请(专利权)人: | 合肥工业大学 |
主分类号: | C30B29/10 | 分类号: | C30B29/10;C30B13/00 |
代理公司: | 安徽省合肥新安专利代理有限责任公司 34101 | 代理人: | 卢敏 |
地址: | 230009 安*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 尺寸 性能 六硼化镧单晶 制备 方法 | ||
本发明公开了一种大尺寸、高性能六硼化镧单晶的制备方法,其是结合放电等离子烧结技术与光学区域熔炼技术,首先以较快的生长速率制得区熔多晶体,再以单晶为籽晶,以较慢的生长速率逐步制得直径均匀且尺寸≥10mm的六硼化镧单晶体。本发明制备的六硼化镧单晶体的直径大于现有所有文献的报道,且单晶体的质量高、性能好,为单晶体的进一步工程化应用奠定了基础。
技术领域
本发明属于阴极材料制备技术领域,具体涉及一种六硼化镧单晶的制备方法。
背景技术
六硼化镧(LaB6)具有高亮度、低功函数、低蒸发率、强的耐离子轰击、大的发射电流密度,可作为空心阴极中的核心热发射材料,在高能加速器、等离子体源、扫描电镜、电子束曝光机等大型精密装备领域具有非常广阔的应用前景。经过半个多世纪的发展,对六硼化镧的结构、物理化学特性及相关阴极进行了广泛而深入的研究,也形成多种制备技术,有烧结技术、化学气相沉积、铝溶剂法及区域熔炼技术。烧结技术主要用于制备大尺寸多晶块体样品,电流密度比较小;化学气相沉积技术主要用于六硼化镧纳米线及薄膜的制备;铝溶剂法难以制备高纯度、大尺寸的单晶;区域熔炼技术利用表面张力克服熔体重力,保持熔区平衡,而无需坩埚,是制备高纯度、高质量、大尺寸块体单晶最佳的方法,目前主要有两类具体制备方法:
1、感应加热区域熔炼法:文献“T.Niemyski,E.Kierzek-pecold,Crystallizationof Lanthanum Hexaboride[J].Journal of Crystal Growth,1968,3:162-165.”采用感应加热区熔法制备了六硼化镧单晶,所得单晶直径5-6mm。
2、光学区域熔炼法:文献“包黎红,张久兴,周身林,张宁,悬浮区域熔炼法制备LaB6单晶体与发射性能研究[J]。物理学报,2011,60:106501(1-7)”采用光学区域熔炼法制备了六硼化镧单晶,所得单晶直径6mm。光学区域熔炼技术相比感应加热区域熔炼法技术,具有更高的加热效率,从而缩短了整个单晶体制备周期,降低了成本。
随着深空探测和大功率器件的发展,对器件高承载和长寿命提出了更高的要求,为满足发展需要必须研制大发射电流和长寿命的阴极材料,因此制备大尺寸(直径≥10mm)、高性能六硼化镧单晶变得非常重要,而由于六硼化镧具有高熔点(2715℃),目前没有关于制备大尺寸、高性能六硼化镧的报道。
发明内容
为解决现有六硼化镧单晶样品尺寸小的问题,本发明旨在提供一种大尺寸、高性能六硼化镧单晶的制备方法。
本发明为实现发明目的,采用如下技术方案:
本发明结合放电等离子烧结技术与光学区域熔炼技术制备大尺寸、高性能六硼化镧单晶的方法,其特征在于,包括如下步骤:
第1步,多晶块体制备
将纯度不低于99.9%的六硼化镧粉末在Ar气氛中球磨不少于2h,使得粉末粒径≤2μm;然后将球磨后的粉末装入石墨模具中,将所述的石墨模具置于放电等离子烧结炉中(LABOX-350),在真空条件下进行烧结,获得六硼化镧烧结多晶棒;
所述烧结的工艺参数设置为:升温速率100-300℃/min,压力30-50MPa,烧结温度为1300-1800℃,保温时间为1-15min;保温结束后,样品随炉冷却至室温;
第2步,大尺寸籽晶制备
(21)将第1步制得的六硼化镧烧结多晶棒进行线切割,获得若干直径为6mm、7mm、9mm和11mm的六硼化镧烧结多晶棒;
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