[发明专利]大面积AZO玻璃镀膜生产线

说明书

本发明公开了大面积AZO玻璃镀膜生产线，包括镀膜线和传送线，所述镀膜线包括依次连接的进口室、进口缓冲室、进口传送室、溅射室、出口传送室、出口缓冲室、出口室和质检室，相邻的室之间设有至少一个阀门，所述传送线包括传动辊和镀膜质检辊，所述进口室、进口缓冲室、进口传送室、溅射室、出口传送室、出口缓冲室和出口室内均设有依次连接的传动辊，所述质检室内设有镀膜质检辊，所述出口室内传动辊与镀膜质检辊相连，所述传动辊与镀膜质检辊用于传送镀膜基片。本发明提供的大面积AZO玻璃镀膜生产线能够实现各类大面积镀膜的大批量、低成本生产，而且溅射沉积速率高，工艺通用性强。素扩散路径短，无中间产物，无元素蒸发，因而制备速度快、效率高，良品率高达95％以上，特别适合大规模工业化生产。

技术领域

本发明涉及大面积AZO玻璃镀膜生产线，属于真空镀膜技术领域。

背景技术

真空镀膜技术初现于20世纪30年代，四五十年代开始出现工业应用，工业化大规模生产开始于20世纪80年代，在电子、宇航、包装、装潢、烫金印刷等工业中取得广泛的应用。真空镀膜技术是一种新颖的材料合成与加工的新技术，是表面工程技术领域的重要组成部分。真空镀膜技术是利用物理、化学手段将固体表面涂覆一层特殊性能的镀膜，从而使固体表面具有耐磨损、耐高温、耐腐蚀、抗氧化、防辐射、导电、导磁、绝缘和装饰灯许多优于固体材料本身的优越性能，达到提高产品质量、延长产品寿命、节约能源和获得显著技术经济效益的作用。需要镀膜的被称为基片，镀的材料被称为靶材。

磁控溅射是利用荷能粒子轰击固体靶材，使靶材原子或分子被溅射出来并沉积到衬底表面的一种工艺。靶材可选用金属靶和陶瓷靶。磁控溅射制备法具有沉积速率高、基片温度低、成膜黏附性好、易控制、成本低、适合大面积制膜的优点。真空蒸镀就是将需要制成薄膜的物质放于真空中进行蒸发或升华，使之在基片表面上析出。真空蒸镀的装置比较简单，工艺参数较少，易控制薄膜的生长，薄膜中杂质含量低。但真空度的高低直接影响薄膜的结构和性能，真空度低，材料受残余气体分子污染严重，薄膜性能变差，提高衬底温度有利于气体分子的解吸。

随着真空镀膜领域中镀膜技术的日新月异，对镀膜产品的要求也越来越高，因此镀膜生产线也出现越来越多的改进，生产线的要求随之提高，现有技术的镀膜生产线的整体稳定性及镀膜均匀性，生产效率低以及相应的设备成本高。

AZO玻璃(ZnO：Al)制备原料易得，制造成本低廉，无毒，易于实现掺杂，性能指标好。但其膜层偏软，镀膜后不能钢化，产品刻蚀后存放时间短。

发明内容

针对现有技术存在的上述问题，本发明的目的是提供可立式镀膜的大面积AZO玻璃镀膜生产线。

为实现上述发明目的，本发明采用的技术方案如下：

本发明的目的在于提供大面积AZO玻璃镀膜生产线，所述大面积AZO玻璃镀膜生产线包括镀膜线和传送线，所述镀膜线包括依次连接的进口室、进口缓冲室、进口传送室、溅射室、出口传送室、出口缓冲室、出口室和质检室，相邻的室之间设有至少一个阀门，所述传送线包括传动辊和镀膜质检辊，所述进口室、进口缓冲室、进口传送室、溅射室、出口传送室、出口缓冲室和出口室内均设有依次连接的传动辊，所述质检室内设有连接的镀膜质检辊和一大面积AZO玻璃质检区，所述大面积AZO玻璃质检区包括平行设置的两侧板、在两侧板上滑动的真空镀膜基片架，和一质检系统，所述侧板上设有导轨，所述真空镀膜基片架底部设有滑动键和传动机构，所述真空镀膜基片架通过滑动键和传动机构在导轨上运动，所述出口室内传动辊与镀膜质检辊相连，所述镀膜质检辊与大面积AZO玻璃质检区相连。

所述真空镀膜基片架为至少一个，每个所述导轨数量是真空镀膜基片架数量的两倍，所述导轨分别等高的安装于大面积AZO玻璃质检区的两侧板上，每个真空镀膜基片架侧边位于导轨上，即真空镀膜基片架在其对应的导轨上滑动，即在大面积AZO玻璃质检区上水平移动。