[发明专利]适配多水箱的高精度辐射场扫描装置

说明书

本发明涉及一种适配多水箱的高精度辐射场扫描装置，所述扫描装置包括：三维运动导轨装置，设置于水箱的探测器置入面的上方，所述三维运动导轨装置包括第一导轨、第二导轨和第三导轨；夹紧模块，设置于所述三维运动导轨装置上，通过所述三维运动导轨装置的伺服电机驱动；探测器，被所述夹紧模块固定，并设置于水箱中，随所述夹紧模块的移动在所述水箱中相应移动，用于对通过水箱的射线入射面射入水箱中的射线进行检测，从而确定辐射剂量；磁栅尺，确保探测器精准到达预定工作位置。该扫描装置能够用于使探测器在多维度上的运动，从而在各个所需位置进行探测，得到所需测量数据，使得测试结果更加精准有效。

技术领域

本发明涉及辐射探测设备领域，尤其涉及一种适配多水箱的高精度辐射场扫描装置。

背景技术

电离室是利用电离辐射的电离效应测量电离辐射的探测器，能够被用来探测在一个位置的辐射量。

在不同的应用场景下，电离室可以被设置或者被容纳在不同的装置中。

在针对放疗质控的高精度辐射场的测量方法中，将电离室置于水箱中，以前的仅凭借物理师用电离室剂量仪、胶片等普通设备通过复杂的操作来完成位置调整,将水箱或者电离室沿着射线束方向进行平移，也就是说只有单维的位置变化，无法获得准确的测试结果，测量位置有限，费时费力且准确性差。本发明的扫描装置在结构上可以实现三维方向精确的调节电离室与水箱的位置和方向。

发明内容

本发明的目的是针对现有技术的缺陷，提供一种适配多水箱的高精度辐射场扫描装置，结构上可以实现三维方向精确的调节电离室与水箱的位置和方向。

为实现上述目的，本发明提供了一种适配多水箱的高精度辐射场扫描装置，包括：

三维运动导轨装置，设置于水箱的探测器置入面的上方，所述三维运动导轨装置包括第一导轨、第二导轨和第三导轨；所述第一导轨与所述第二导轨在平行所述探测器置入面的平面上垂直设置，所述第三导轨垂直所述探测器置入面设置；

夹紧模块，设置于所述三维运动导轨装置上，通过所述三维运动导轨装置的伺服电机驱动，在所述第一导轨、第二导轨和第三导轨构成的立体空间内运动；所述夹紧模块在平行和垂直所述探测器置入面的平面上具有预设的可调整角度范围；

探测器，被所述夹紧模块固定，并设置于水箱中，随所述夹紧模块的移动在所述水箱中相应移动，用于对通过水箱的射线入射面射入水箱中的射线进行检测，从而确定辐射剂量；其中，所述水箱的射线入射面垂直于所述探测器置入面；

磁栅尺，与所述伺服电机相连接，通过所述伺服电机获得所述探测器的位移数据，并根据设定位移参数对所述伺服电机产生位移控制信号，用以控制所述伺服电机驱动所述夹紧模块带动所述探测器到达预定工作位置。

优选的，所述扫描装置还包括电磁限位开关；所述电磁限位开关分别设置于所述第一导轨、第二导轨和第三导轨上，用以限定所述夹紧模块在所述第一导轨、第二导轨和第三导轨上的最大位移。

优选的，所述扫描装置还包括推块；所述推块设置于与所述射线入射面相对的水箱侧壁的外表面，用于带动所述水箱在沿射线入射方向产生位移。

进一步优选的，所述扫描装置还包括定位档块；所述定位档块设置于沿射线入射方向的水箱两侧，用于限定所述水箱在沿射线入射方向的最大位移和最小位移。

优选的，所述高精度辐射场扫描装置与水箱配合的位置误差小于0.5mm。

优选的，所述可调整角度范围为±15°。

优选的，所述第一导轨、第二导轨和第三导轨之间的相互垂直度误差小于0.1°。