[发明专利]适配多水箱的高精度辐射场扫描装置

权利要求书

1.一种适配多水箱的高精度辐射场扫描装置，其特征在于，所述扫描装置包括：

三维运动导轨装置，设置于水箱的探测器置入面的上方，所述三维运动导轨装置包括第一导轨、第二导轨和第三导轨；所述第一导轨与所述第二导轨在平行所述探测器置入面的平面上垂直设置，所述第三导轨垂直所述探测器置入面设置；

夹紧模块，设置于所述三维运动导轨装置上，通过所述三维运动导轨装置的伺服电机驱动，在所述第一导轨、第二导轨和第三导轨构成的立体空间内运动；所述夹紧模块在平行和垂直所述探测器置入面的平面上具有预设的可调整角度范围；

探测器，被所述夹紧模块固定，并设置于水箱中，随所述夹紧模块的移动在所述水箱中相应移动，用于对通过水箱的射线入射面射入水箱中的射线进行检测，从而确定辐射剂量；其中，所述水箱的射线入射面垂直于所述探测器置入面；

磁栅尺，与所述伺服电机相连接，通过所述伺服电机获得所述探测器的位移数据，并根据设定位移参数对所述伺服电机产生位移控制信号，用以控制所述伺服电机驱动所述夹紧模块带动所述探测器到达预定工作位置；

其中，所述第二导轨为平行设置的两根子导轨，每个所述子导轨上具有一个第二滑动模块，两个所述第二滑动模块通过所述伺服电机驱动同步运动；所述第一导轨的两端分别架设在两个所述滑动模块上，所述第一导轨随所述第二滑动模块的运动相应移动；

所述第一导轨上具有一个由所述伺服电机驱动的第一滑动模块，所述第三导轨与所述第一导轨垂直相接于所述第一滑动模块；所述第三导轨随所述第一滑动模块的运动相应移动；

所述夹紧模块设置于所述第三导轨上，由所述伺服电机驱动，在所述第三导轨上运动；

所述扫描装置还包括电磁限位开关；

所述电磁限位开关分别设置于所述第一导轨、第二导轨和第三导轨上，用以限定所述夹紧模块在所述第一导轨、第二导轨和第三导轨上的最大位移；

所述扫描装置还包括定位档块；

所述定位档块设置于沿射线入射方向的水箱两侧，用于限定所述水箱在沿射线入射方向的最大位移和最小位移；

所述扫描装置还包括推块；

所述推块设置于与所述射线入射面相对的水箱侧壁的外表面，用于带动所述水箱在沿射线入射方向产生位移。

2.根据权利要求1所述的扫描装置，其特征在于，所述高精度辐射场扫描装置与水箱配合的位置误差小于0.5mm。

3.根据权利要求1所述的扫描装置，其特征在于，所述可调整角度范围为±15°。

4.根据权利要求1所述的扫描装置，其特征在于，所述第一导轨、第二导轨和第三导轨之间的相互垂直度误差小于0.1°。

5.根据权利要求1所述的扫描装置，其特征在于，所述磁栅尺与外部的处理设备相接，将检测得到的所述探测器的位移数据发送给所述处理设备；

所述处理设备根据所述设定位移参数和所述位移数据确定修正位移数据，并转化为对所述伺服电机的位移控制信号，发送给所述伺服电机。

6.根据权利要求1所述的扫描装置，其特征在于，所述电磁限位开关在所述第一导轨、第二导轨和第三导轨上的设置位置可以调整，用以适配不同的水箱。