[发明专利]一种胶体磨漏斗

说明书

本发明公开了一种胶体磨漏斗，包括漏斗本体、漏斗旋转片和进水口；所述漏斗本体的下端设置有出料口，所述漏斗本体内壁设置有向所述漏斗本体的出料口延伸的导流片，所述进水口设置在所述漏斗本体侧壁的上端；所述漏斗旋转片设置在所述漏斗本体内，所述漏斗旋转片可通过外接动力源从而自转。本发明的一种超微胶体磨漏斗利用可以自转的漏斗旋转片来加快物料在漏斗内的漩涡式旋转，使得加入漏斗的需磨物料混合体中的水、大颗粒、小颗粒、液体等物料中：较大颗粒的物料、较重的物料、固体物料，或者漂浮泡沫都可以在旋转离心力的作用下和螺旋导流片的作用下优先转入漏斗底部，从而优先进入磨盘区进行研磨，达到分级后优先研磨的功能。

技术领域

本发明涉及机械领域，尤其涉及一种胶体磨漏斗。

背景技术

胶体磨是食品、化工、医药、建材等行业常用的分散研磨设备，尤其是建筑涂料厂家，常用胶体磨研磨物料。

传统的胶体磨主体部分由壳体、定子、转子、调节机构、冷却机构、电机等组成。壳体上设有料斗，壳体底部设有两个通道，一个放料口和一个回料口。通常研磨物料时，把物料加入到胶体磨盛料漏斗中，关闭放料口，开动电机，物料开始研磨，物料边研磨边从回料口泵入回流到盛料漏斗中，与剩料漏斗中没有研磨的物料一同再次进入胶体磨进行研磨，如此多次循环研磨，直至将物料研磨至所需细度，打开放料口，将物料放出。

物料在现有的胶体磨漏斗内下滑的过程中，缺少较大颗粒优先研磨的功能，遇到粉末和水一起加入漏斗研磨时，粉末容易漂在水面上，不易下到研磨区，还有遇到加入漏斗物料过程中会产生大量漂浮泡沫时，泡沫里容易藏有颗粒使得错过研磨。

发明内容

为了克服现有技术的缺点与不足，本发明公开了一种胶体磨漏斗，包括漏斗本体、漏斗旋转片和进水口；所述漏斗本体的下端设置有出料口，所述漏斗本体内壁设置有向所述漏斗本体的出料口延伸的导流片，所述进水口设置在所述漏斗本体侧壁的上端；所述漏斗旋转片设置在所述漏斗本体内，所述漏斗旋转片可通过外接动力源从而自转。

进一步地，所述导流片为螺旋导流片，所述导流片从所述漏斗本体内壁上端沿螺旋形向所述漏斗本体的出料口延伸。

进一步地，还包括防护盖，所述防护盖设置在所述漏斗本体的顶面。

进一步地，所述防护盖为V形防护盖。

进一步地，所述漏斗旋转片为三角形旋转片。

进一步地，所述漏斗旋转片的宽度由上而下逐渐减小。

进一步地，所述漏斗旋转片的自转轴线与所述漏斗本体的中心轴线重合。

进一步地，所述漏斗本体的出料口处设置有强磁过滤器。

进一步地，所述漏斗旋转片与螺杆连接，螺杆下面的周围在漏斗进料口处设有螺旋推料片。

进一步地，所述漏斗本体侧壁下端设置有用于供物料回流的回研流入口。

本发明的一种胶体磨漏斗利用可以自转的漏斗旋转片来带动物料在漏斗内的漩涡式旋转，同时螺旋导流片能够让物料保持一定轨道进行漩涡式滑动，并产生向周围的一个离心力，使得加入漏斗的需磨物料混合体中的水、固体、大颗粒、小颗粒、液体等等的物料中：较大颗粒的物料、较重的物料、固体物料，都可以在旋转离心力的作用下和螺旋导流片的作用下优先转入漏斗底部，从而优先进入磨盘区进行研磨，达到分级后优先研磨的功能。直接提高研磨区需要研磨的效率和有用功。大大减少了磨过后的物料重复磨的无用功。加入漏斗中有漂浮物或者产生泡沫时，漂浮物或者泡沫在漩涡作用力下会优先卷入漏斗底部，减少磨不到的漏网之鱼。

为了更好地理解和实施，下面结合附图详细说明本发明。

附图说明

图1是本发明的示意图。

图2是本发明研磨机构的放大示意图。