[发明专利]一种胶体磨漏斗

权利要求书

1.一种胶体磨漏斗，其特征在于：包括漏斗本体、漏斗旋转片和进水口；所述漏斗本体的下端设置有出料口，所述漏斗本体内壁设置有向所述漏斗本体的出料口延伸的导流片，所述导流片为螺旋导流片，所述导流片从所述漏斗本体内壁上端沿螺旋形向所述漏斗本体的出料口延伸；所述进水口设置在所述漏斗本体侧壁的上端；所述漏斗旋转片为三角形旋转片，设置在所述漏斗本体内，所述漏斗旋转片可通过外接动力源从而自转，所述漏斗旋转片的自转轴线与所述漏斗本体的中心轴线重合，所述漏斗旋转片与螺杆连接，螺杆下面的周围在漏斗出料口处设有螺旋推料片；

胶体磨漏斗利用自转的漏斗旋转片带动物料在漏斗内的旋涡式旋转，同时螺旋导流片让物料保持一定轨道进行旋涡式滑动，并产生向周围的一个离心力，使加入漏斗的需磨物料混合体中的较大颗粒的物料、较重的物料、固体物料，在旋转离心力的作用下和螺旋导流片的作用下优先转入底部，从而优先进入磨盘区进行研磨，达到分级后优先研磨的功能；

被磨物料与水料进入漏斗，在漏斗旋转片带动旋转下，物料在惯性的作用下，和漏斗内壁螺旋导流片的作用下，物料加速旋入一级初磨器进行研磨，避免物料放入漏斗后没有及时有效地优先进入研磨区。

2.根据权利要求1所述的一种胶体磨漏斗，其特征在于：还包括防护盖，所述防护盖设置在所述漏斗本体的顶面。

3.根据权利要求2所述的一种胶体磨漏斗，其特征在于：所述防护盖为V形防护盖。

4.根据权利要求1所述的一种胶体磨漏斗，其特征在于：所述漏斗旋转片的宽度由上而下逐渐减小。

5.根据权利要求1所述的一种胶体磨漏斗，其特征在于：所述漏斗本体的出料口处设置有强磁过滤器。

6.根据权利要求1所述的一种胶体磨漏斗，其特征在于：所述漏斗本体侧壁下端设置有用于供物料回流的回研流入口。