[发明专利]对卡那霉素具有双重特异性识别的适配体-分子印迹荧光传感器及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种对卡那霉素具有双重特异性识别的适配体—分子印迹荧光传感器的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

首先，由模版分子卡那霉素、巯基修饰的卡那霉素适配体和甲基丙烯酸形成预聚合复合物；

然后，由预聚合复合物、交联剂、丙烯胺修饰的CdSe量子点和引发剂形成适配体—量子点复合物；

最后，将适配体—量子点复合物中模版分子卡那霉素洗脱，得到对卡那霉素具有双重特异性识别的适配体—分子印迹荧光传感器。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

1)制备预聚合复合物

将模版分子卡那霉素、巯基修饰的卡那霉素适配体和甲基丙烯酸形成预聚合复合物溶于pH值为7的缓冲液中，混合均匀，在温度为37℃的条件下，反应2小时，制得预聚合复合物；

2)制备适配体—量子点复合物

在步骤1)所制得的预聚合复合物中，加入交联剂、丙烯胺修饰的CdSe量子点，超声5-10分钟，在氮气保护的条件下，加入引发剂，再加入缓冲液，在温度为40℃的条件下，搅拌反应6小时，制得适配体—量子点复合物；

3)洗脱模版分子卡那霉素

将步骤2)获得的适配体—量子点复合物在转速为12000rpm的条件下离心10分钟，去掉上清液，用水洗涤适配体—量子点复合物，再用洗脱液除去适配体—量子点复合物中的模版分子卡那霉素，得到对卡那霉素具有双重特异性识别的适配体—分子印迹荧光传感器。

3.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于：所述模版分子卡那霉素、巯基修饰的卡那霉素适配体和甲基丙烯酸的摩尔比为1:1:2—15。

4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于：所述模版分子卡那霉素、巯基修饰的卡那霉素适配体和甲基丙烯酸的摩尔比为1:1:5。

5.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于：所述丙烯胺修饰的CdSe量子点由以下步骤制备所得：

S1：将羧基修饰的CdSe量子点、EDC溶液和NHS溶液混合，在温度为40℃、磁力搅拌的条件下反应30分钟，使CdSe QDs表面的羧基被充分活化；

S2:加入丙烯胺溶液，在温度为40℃的条件下反应2小时；

S3:加入异丙醇，经过沉淀、离心、分离、清洗、重悬后得到纯化的丙烯胺修饰的CdSe量子点。

6.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于：所述交联剂选自N，N’-亚甲基双丙烯酰胺或三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯；所述引发剂选自四甲基乙二胺和过硫酸铵，或者偶氮二异丁腈。

7.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于：所述交联剂为N，N’-亚甲基双丙烯酰胺；所述引发剂为四甲基乙二胺和过硫酸铵。

8.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于：所述缓冲液选自磷酸盐缓冲液或Tris-HCl缓冲液；所述洗脱液为含有0.01％(v/v)乙酸的80％(v/v)乙腈/水洗脱液。

9.一种对卡那霉素具有双重特异性识别的适配体—分子印迹荧光传感器，其特征在于：所述对卡那霉素具有双重特异性识别的适配体—分子印迹荧光传感器为根据权利要求1—8中任意一项所述的对卡那霉素具有双重特异性识别的适配体—分子印迹荧光传感器的制备方法制备获得的。

10.权利要求9所述的对卡那霉素具有双重特异性识别的适配体—分子印迹荧光传感器在检测样品中卡那霉素含量的应用。