[发明专利]基于图像灰度值的掩膜版光学缺陷检测方法

说明书

本发明公开了一种基于图像灰度值的掩膜版光学缺陷检测方法，方法的步骤中含有：在相机界面上采集实际图的亮区数据和暗区数据；利用相机平场校正功能，对实际图进行相机视场的亮度校正，保证一个视场内的亮区和暗区的灰度值分别保值，并保持尽可能一致；在实际图的标定版上选择一个暗区，标定灰度值为V1；在实际图的标定版上选择一个亮区，标定灰度值为V2；然后将暗区的标定灰度值V1和亮区的标定灰度值V2记录到Recipe模板中，作为后续mask检测参数，并且后续mask检测参数直接作用于标准图生成位图的灰度值，使实际图的灰度值和标准图的灰度值保持尽可能一致；待配准后，实际图和标准图进行绝对相减操作，进而判断实际图上是否存在缺陷。本发明通过该方法可以提高缺陷检测精度，检测效果好。

技术领域

本发明涉及一种基于图像灰度值的掩膜版光学缺陷检测方法，属于半导体检测技术领域。

背景技术

目前，半导体掩膜版蚀刻后，图形上的缺陷对后道工序的质量尤为重要，如果采用光学检测，一般会通过相机把采集的灰度图进行二值化处理，然后与黑白的标准图进行对比检测，但是如果为了效果好，比较消耗性能，快速的二值化，效果也欠佳；二值化的效果直接影响缺陷检测精度。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是克服现有技术的缺陷，提供一种基于图像灰度值的掩膜版光学缺陷检测方法，通过该方法可以提高缺陷检测精度，检测效果好。

为了解决上述技术问题，本发明的技术方案是：一种基于图像灰度值的掩膜版光学缺陷检测方法，方法的步骤中含有：

步骤S01：提供一掩膜版的实际图和标准图，并在相机界面上采集实际图的亮区数据和暗区数据；

步骤S02：利用相机平场校正功能，对实际图进行相机视场的亮度校正，保证一个视场内的亮区和暗区的灰度值分别保值，并保持尽可能一致；

步骤S03：在实际图的标定版上选择一个暗区，标定灰度值为V1；在实际图的标定版上选择一个亮区，标定灰度值为V2；然后将暗区的标定灰度值V1和亮区的标定灰度值V2记录到Recipe模板中，作为后续mask检测参数，并且后续mask检测参数直接作用于标准图生成位图的灰度值，使实际图的灰度值和标准图的灰度值保持尽可能一致；

步骤S04：待配准后，实际图和标准图进行绝对相减操作，进而判断实际图上是否存在缺陷。

进一步，在步骤S01中，采集数据前，打开透射光源和相机，调节透射光源的亮度和相机的曝光时间。

进一步，在步骤S04中，判断实际图上是否存在缺陷的方法：根据Recipe模板中设定的缺陷阈值T，来判断是否存在缺陷，取实际图的像素灰度值V和对应的标准图的灰度值Vt，当实际图的像素的像素灰度值V满足|V-V1|T时，则认为实际图的该像素可能存在缺陷，先把该像素设置成1，如果没有大于T的，则该像素设置成0，实际图中像素全部处理完成后，新生成的图则为纯二值化图，记为图S；把图S分成若干网格，每个网格大小记为缺陷分辨率，当像素为1的聚集面积大于阈值M，则此区域是有缺陷的；当像素为1的聚集面积小于阈值M，但通过访问标准图对应位置的八邻域像素灰度值，如果对应位置的八邻域像素灰度值都是0，则说明是孤立的，此图S中该位置也算作缺陷。

进一步，通过减小设定的阈值M的大小，来提高捕获缺陷的灵敏度。

采用了上述技术方案后，本发明可以规避采用二值化图进行对比，而是通过实际的检测物的实际图来标定的灰度值设定到标准图中，然后将实际图与标准图通过灰度进行对比检测，这样就可以提高其缺陷检测精度，检测效果好。

附图说明

图1为本发明的掩膜版的透射照明原始图；

图2为本发明的掩膜版的标准图；

图3为本发明的实际图和标准图的相减图；