[发明专利]一种单层二硫化钼的液相剥离方法

权利要求书

1.一种单层二硫化钼的液相剥离方法，其特征在于：所述方法包括如下步骤：

1)将体材料二硫化钼在有机溶剂中进行水热预处理，对处理后的二硫化钼进行真空抽滤，洗净；

2)将洗净后的二硫化钼在极性溶剂中进行超声剥离，得到含有二硫化钼的溶液；

3)对步骤2)中的二硫化钼溶液进行离心处理，即得单层二硫化钼；

步骤1)中，所述水热预处理的温度为130℃，时间为48h；

步骤1)中，所述有机溶剂为甲酰胺；

步骤1)中，所述有机溶剂和二硫化钼的体积/质量比，以mL/g计，为20～25：1；

步骤2)中，所述极性溶剂包括：N～甲基吡咯烷酮、二甲基亚砜、二甲基甲酰胺、异丙胺中的任意一种；

步骤2)中，所述极性溶剂与二硫化钼的体积/质量比，以mL/mg计，为1：1；

步骤2)中，所述超声剥离是指：功率100W、频率37Hz，超声温度20～40℃，超声时间2-4h；

步骤3)中，所述离心处理是指：在20～40℃下，取步骤2)中超声后的溶液在3500～4500转/分钟的条件下离心30～60min，取上层溶液的2/3；然后将取出的上层溶液在5500～6500转/分钟的条件下离心30～60min分钟，再取上层溶液的2/3，即得单层二硫化钼。

2.如权利要求1所述的单层二硫化钼的液相剥离方法，其特征在于：步骤3)中，所述离心处理是指：在30℃下，取步骤2)中超声后的溶液在4000转/分钟的条件下离心60min，取上层溶液的2/3；然后将取出的上层溶液在6000转/分钟的条件下离心30min分钟，再取上层溶液的2/3，即得单层二硫化钼。

3.如权利要求1或2所述的单层二硫化钼的液相剥离方法在光电子器件、光电催化、传感领域中的应用。