[发明专利]常压低温等离子体处理种子设备和操作方法在审
| 申请号: | 201711245263.9 | 申请日: | 2017-12-01 |
| 公开(公告)号: | CN107911931A | 公开(公告)日: | 2018-04-13 |
| 发明(设计)人: | 万良淏;戴阳 | 申请(专利权)人: | 南京苏曼等离子科技有限公司 |
| 主分类号: | H05H1/24 | 分类号: | H05H1/24 |
| 代理公司: | 南京源古知识产权代理事务所(普通合伙)32300 | 代理人: | 马晓辉 |
| 地址: | 211178 江苏省南*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 常压 低温 等离子体 处理 种子 设备 操作方法 | ||
技术领域
本发明属于等离子体设备,特别涉及一种常压低温等离子体种子处理方法和操作方法。
背景技术
等离子体是一种高能量的物质聚集态,其中含有大量的电子、离子、激发态的原子、分子、光子和自由基等活性粒子。利用等离子体对材料进行处理可引起材料表面的物理变化(如刻蚀、解吸、溅射、注入、激发和电离等)和化学变化(如氧化、分解、交联、聚合和接枝等),以达到改变材料表面特性(包括亲水性、疏水性、粘合性、阻燃性、防腐性、防静电性以及生物适应性)的目的。等离子体可以通过辉光放电、电晕放电、介质阻挡放电、射频放电以及微波放电等方式产生。介质阻挡放电是有绝缘介质插入放电空间的一种非平衡态气体放电。在两个放电电极之间充满某种工作气体,并将其中一个或两个电极用绝缘介质覆盖,也可以将介质直接悬挂在放电空间或采用颗粒状的介质填充其中,当两电极间施加足够高的交流电压时,电极间的气体会被击穿而产生放电,即产生了介质阻挡放电。
等离子体处理种子原理:利用等离子体发生器激励产生等离子体能量,改变种子内部机理,从而使作物增产;同时,在等离子体能量的刺激和臭氧的强氧化下杀死种子表面的细菌,提高作物品种质量,增强作物抗病、防害能力,有效解决作物抗旱,防倒伏等问题,从而提高粮食产量,改善粮食品种,更好地推进粮食生产,促进农业增产增效和农民增收。
在低温等离子体区域中,种子在常压、电场、磁场、离子、电子、辉光的复合作用下,内部的生长能力得到激活,使其发芽势、发芽率提高,生长旺盛,果实丰厚,提高产量和增加营养成分,根据不同科目下的植物种子,增产幅度可达10%-50%,还具有无农药无污染的特点。
现在并没有一种能够适用于通过介质阻挡放电产生低温等离子体处理的各种种子处理的理论或描述模型。其原因在于各种介质阻挡放电(简称DBD)的工作条件大不相同,且放电过程中既有物理过程,又有化学过程,相互影响,从最终结果很难断定中间发生的具体过程。导致现在利用低温等离子对种子处理在实际应用中操作复杂,可控性不强,处理成本高。
发明内容
1、所要解决的技术问题:
解决现有利用低温等离子体对种子处理操作复杂,可空性不强,处理成本高等问题。
2、技术方案:
为了解决以上问题,本发明提供了一种常压低温等离子体处理种子设备,包括低温等离子体处理基台6和低温等离子体金属电极,所述低温等离子处理基台6和大地地线连接,所述的低温等离子体金属电极与高压连接,其特征在于:所述低温等离子体金属电极设置在绝缘体介质管5内,设有绝缘体介质板2位于低温等离子处理基台6上,覆盖低温等离子处理基台6,所示绝缘体介质管5通过四氟支架3固定,并使所述绝缘体介质管5与所述低温等离子处理基台6保持水平,所述四氟支架3上设有手柄4,所述四氟支架3的两端通过侧板7和所述低温等离子处理基台6连接,并能够在绝缘体介质板2上平稳滑动。
设有一电源控制开关8在手柄4上。
所述手柄4和四氟支架3为螺纹连接。
所述绝缘体介质管5为刚玉管,表面具有稀土涂层。
所述的绝缘体介质板2为刚玉陶瓷板或高纯度石英板。
本发明还提供了常压低温等离子体处理种子装置的操作方法。
3、有益效果:
本发明采用以上技术方案与现有技术相比,具有以下技术效果:本发明的低温等离子体可以产生大气常压辉光放电,操作简便、可控性强、处理成本低;可根据处理种子效果要求,灵活调整装置处理速度和处理次数,且在常压空气中处理,处理成本低廉、效率高。
附图说明
图1是本发明中常压低温等离子体种子处理设备的立体结构轴侧图。
图2是本发明中常压低温等离子体种子处理设备的立体结构前视图。
图3是本发明中常压低温等离子体种子处理设备的立体结构左视图。
图4是本发明中常压低温等离子体种子处理设备的立体结构俯视图。
具体实施方式
下面通过附图来对本发明进行详细说明。
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