[发明专利]常压低温等离子体处理种子设备和操作方法

权利要求书

1.一种常压低温等离子体处理种子设备，包括低温等离子体处理基台（6）和低温等离子体金属电极，所述低温等离子处理基台（6）和大地地线连接，所述的低温等离子体金属电极与高压连接，其特征在于：所述低温等离子体金属电极设置在绝缘体介质管（5）内，设有绝缘体介质板（2）位于低温等离子处理基台（6）上，覆盖低温等离子处理基台（6），所示绝缘体介质管（5）通过四氟支架（3）固定，并使所述绝缘体介质管（5）与所述低温等离子处理基台（6）保持水平，所述四氟支架（3）上设有手柄（4），所述四氟支架（3）的两端通过侧板（7）和所述低温等离子处理基台（6）连接，并能够在绝缘体介质板（2）上平稳滑动。

2.如权利要求1所述的常压低温等离子体处理种子设备，其特征在于：设有一电源控制开关（8）在手柄（4）上。

3.如权利要求1或2所述的常压低温等离子体处理种子设备，其特征在于：所述手柄（4）和四氟支架（3）为螺纹连接。

4.如权利要求1或2所述的常压低温等离子体处理种子设备，其特征在于：所述绝缘体介质管（5）为刚玉管，表面具有稀土涂层。

5.如权利要求1或2所述的的常压低温等离子体处理种子设备，其特征在于：所述的绝缘体介质板（2）为刚玉陶瓷板或高纯度石英板。

6.如权利要求1或2所述的常压低温等离子体处理种子设备，其特征在于：所述低温等离子体处理基台6由不锈钢或其他耐腐蚀的金属做成。

7.一种如权利要求1-6任一权利要求所述的常压低温等离子体处理种子设备的使用方法，包括以下步骤：步骤一、将种子放置在低温等离子体电极基台（6）上的绝缘体介质板上；步骤二、开启等离子体电源，步骤三、按下启动按钮，设备开始激励产生等离子体，用手握住手柄匀速在种子上方往复运动，处理时间5-60S；步骤四、松开按钮，设备停止产生等离子体。

8.一种如权利要求7所述的方法，其特征在于：所述的低温等离子电源为功率密度控制脉冲激励电源。