[发明专利]对准标记、基板及其制作方法、曝光对准方法

说明书

一种对准标记、基板及其制作方法、曝光对准方法。该对准标记包括对准区域、周边区域和遮挡区域。对准区域具有外轮廓；周边区域至少围绕部分所述对准区域的外轮廓设置；遮挡区域围绕所述对准区域的外轮廓设置，且不与所述周边区域重合；所述对准区域和所述遮挡区域是不透明的，所述周边区域至少是部分透明的。该对准标记可以使得曝光机更准确地获取对准标记的位置，从而提高基板与掩模板对位的准确性。同时，该对准标记还减少对准错误的报警，提高生产效率。

技术领域

本公开至少一实施例涉及一种对准标记、基板及其制作方法、曝光对准方法。

背景技术

在光刻工艺中的曝光工序中，通常会采用曝光机配合掩模板进行。在这个过程中，需要将掩模板与被加工物例如基板进行对准，之后曝光机发射光束通过掩模板从而对被加工物表面上涂覆的光刻胶进行曝光。为了进行对准，通常需要在基板和掩模板上分别设置/形成一个或多个对准标记，用于将基板与掩模板对准。

发明内容

本公开至少一实施例提供一种对准标记，该对准标记包括对准区域、周边区域和遮挡区域。对准区域具有外轮廓；周边区域至少围绕部分所述对准区域的外轮廓设置；遮挡区域围绕所述对准区域的外轮廓设置，且不与所述周边区域重合；所述对准区域和所述遮挡区域是不透明的，所述周边区域至少是部分透明的。

例如，该对准标记中，所述对准区域为多边形。

例如，该对准标记中，所述对准区域为矩形。

例如，该对准标记中，所述周边区域包括多个沿所述对准区域的外轮廓的每条边延伸方向延伸并超出所述对准区域的外轮廓的条形结构。

例如，该对准标记中，所述对准区域为圆形。

例如，该对准标记中，所述周边区域的形状为环形，所述环形的轮廓形状与所述对准区域的外轮廓的形状相同。

例如，该对准标记中，所述周边区域包括多个沿所述对准区域的切线方向延伸并超出所述对准区域的外轮廓的条形结构。

例如，该对准标记中，所述对准区域和所述遮挡区域的材料为感光材料。

本公开至少一实施例还提供一种基板，该基板包括本公开的实施例提供的任意一种对准标记。

例如，该基板还包括工作区和位于所述工作区域周边的非工作区；所述对准标记位于所述非工作区内。

例如，该基板还包括将所述基板的工作区划分为多个阵列单元的黑矩阵；所述对准标记的对准区域和遮挡区域的材料与所述黑矩阵的材料相同。

本公开至少一实施例还提供一种基板的制作方法，该方法包括提供衬底基板，所述衬底基板包括工作区以及位于所述工作区周边的非工作区；在所述衬底基板上形成不透明膜层；以及对所述不透明膜层进行图案化，以形成所述对准标记的对准区域、周边区域和遮挡区域。

例如，该基板的制作方法中，所述不透明膜层为黑色感光膜层，采用光刻工艺实现所述图案化。

例如，该基板的制作方法中，所述基板还包括黑矩阵，所述基板的制作方法还包括在衬底基板的工作区域中形成所述黑矩阵；所述对准标记与所述黑矩阵经由同一工艺同时形成。

本公开至少一实施例还提供一种曝光对准方法，该方法包括：提供基板、曝光机和掩模板，其中，所述基板上形成有本公开的实施例提供的任意一种对准标记的第一对准标记，所述掩模板包括第二对准标记；通过所述曝光机获取所述第一对准标记的对准区域的位置信息；以及调整所述基板与所述掩模板之间的相对位置，将所述掩模板与所述基板对准。

例如，该曝光对准方法中，所述曝光机包括镜头，所述掩模板位于所述镜头与所述基板之间，通过所述镜头采集所述对准标记的遮挡区域的图像信息。