[发明专利]对准标记、基板及其制作方法、曝光对准方法

权利要求书

1.一种对准标记，位于透明的待构图基板上，且包括：

对准区域，具有外轮廓，配置为在曝光过程中被曝光机识别以将所述待构图基板与掩模板对准；

周边区域，其中，所述周边区域是透明的且是所述待构图基板的一部分，包括围绕所述对准区域的整个所述外轮廓的透明的封闭的环形部分，以使在所述曝光过程中进行曝光对准时，所述曝光机在对所述对准区域进行识别时识别到所述对准区域的灰度与其周围的所述透明的封闭的环形部分的灰度之间存在差异；以及

遮挡区域，至少围绕部分所述对准区域的外轮廓设置，且不与所述周边区域重合；其中，所述对准区域和所述遮挡区域是不透明的，所述对准区域和所述遮挡区域是通过在所述透明的待构图基板上形成不透明膜层以及对所述不透明膜层进行图案化而形成的，所述待构图基板包括透明的非工作区，所述透明的非工作区位于所述遮挡区域外侧且围绕所述遮挡区域。

2.根据权利要求1所述的对准标记，其中，所述对准区域为多边形。

3.根据权利要求2所述的对准标记，其中，所述对准区域为矩形。

4.根据权利要求2或3所述的对准标记，其中，所述封闭的环形部分的外轮廓为多边形，所述周边区域包括多个沿所述封闭的环形部分的外轮廓的每条边的延伸方向延伸并超出所述封闭的环形部分的外轮廓的条形结构。

5.根据权利要求1所述的对准标记，其中，所述对准区域为圆形。

6.根据权利要求2或3或5所述的对准标记，其中，所述周边区域的封闭的环形部分的外轮廓形状与所述对准区域的外轮廓的形状相同。

7.根据权利要求5所述的对准标记，其中，所述周边区域包括多个沿所述封闭的环形部分的外轮廓的切线方向延伸并超出所述封闭的环形部分的外轮廓的条形结构。

8.根据权利要求1所述的对准标记，其中，所述对准区域和所述遮挡区域的材料为感光材料。

9.一种待构图基板，包括至少一个权利要求1-8任一所述的对准标记。

10.根据权利要求9所述的待构图基板，包括：

工作区和位于所述工作区周边的非工作区；

所述对准标记位于所述非工作区内。

11.根据权利要求9所述的待构图基板，其中，所述待构图基板为显示基板。

12.根据权利要求11所述的待构图基板，其中，所述待构图基板为母板，所述母板包括多个基板单元，每个所述基板单元包括将所述基板单元划分为多个阵列单元的黑矩阵；

所述对准标记的对准区域和遮挡区域的材料与所述黑矩阵的材料相同。

13.一种权利要求9-10或12任一所述的待构图基板的制作方法，包括：

提供衬底基板，所述衬底基板包括工作区以及位于所述工作区周边的非工作区；

在所述衬底基板上形成不透明膜层；以及

对所述不透明膜层进行图案化，以形成所述对准标记的对准区域、周边区域和遮挡区域。

14.根据权利要求13所述的待构图基板的制作方法，其中，所述不透明膜层为黑色感光膜层，采用光刻工艺实现所述图案化。

15.根据权利要求13所述的待构图基板的制作方法，其中，所述待构图基板还包括黑矩阵，所述待构图基板的制作方法还包括在衬底基板的工作区域中形成所述黑矩阵；

所述对准标记与所述黑矩阵经由同一工艺同时形成。