[发明专利]一种亮场缺陷检测设备自动优化光强条件的方法及系统有效

专利信息
申请号: 201711240724.3 申请日: 2017-11-30
公开(公告)号: CN108022849B 公开(公告)日: 2020-06-16
发明(设计)人: 汪金凤 申请(专利权)人: 上海华力微电子有限公司
主分类号: H01L21/66 分类号: H01L21/66
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 智云
地址: 201203 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 缺陷 检测 设备 自动 优化 条件 方法 系统
【权利要求书】:

1.一种亮场缺陷检测设备自动优化光强条件的方法,包括如下步骤:

步骤一,自动选取一个位于晶圆中心的晶粒作为取样晶粒进行预扫描,获取反馈回来的光强灰阶值;

步骤二,对收集到的数据进行分析,根据不同灰阶值定义多个区域,进而选取最亮及最暗区域放置光发射头;

步骤三,选取从晶圆中心至晶圆边缘的多个晶粒为取样序列进行光强调节,分别在所述取样序列的每个取样晶粒的对应于步骤二的最亮和最暗区域的位置放置光发射头,获取反馈回来的光强灰阶值,并对两个所述光发射头的光强值进行叠加,再通过放大及补偿得到机台设定的最大及最小区间,进而以此作为机台提供给晶圆的光强条件。

2.如权利要求1所述的一种亮场缺陷检测设备自动优化光强条件的方法,其特征在于:于步骤一中,自动选取一个位于晶圆中心的晶粒作为取样晶粒进行预扫描,将取样晶粒置于聚焦光路下,收集不同电路特征区域反馈回来的光强信号,获取反馈回来的光强灰阶值。

3.如权利要求1所述的一种亮场缺陷检测设备自动优化光强条件的方法,其特征在于:于步骤二中,灰阶值范围为0~255,按照灰阶值梯度,相同灰阶值梯度划分为一个区域。

4.如权利要求3所述的一种亮场缺陷检测设备自动优化光强条件的方法,其特征在于:最亮和最暗的区域按照灰阶值的大小定义,当最亮及最暗区域定义好后,将光发射头放到最亮和最暗的区域的中心位置。

5.如权利要求1所述的一种亮场缺陷检测设备自动优化光强条件的方法,其特征在于:于步骤三中,选取从晶圆中心至晶圆边缘的5到10个晶粒为取样序列进行扫描,分别在所述取样序列的每个取样晶粒的对应于步骤二的最亮和最暗区域的位置放置光发射头,光接收头在取样晶粒的整个区域进行扫描接收返回光强信号,获取反馈回来的光强灰阶值。

6.一种亮场缺陷检测设备自动优化光强条件的系统,包括:

预扫描单元,用于自动选取一个位于晶圆中心的晶粒作为取样晶粒进行预扫描,获取反馈回来的光强灰阶值;

区域定义单元,用于对收集到的数据进行分析,根据不同灰阶值定义多个区域,进而选取最亮及最暗区域放置将光发射头;

光强调节优化单元,用于选取从晶圆中心至晶圆边缘的多个晶粒为取样序列进行光强调节,分别在所述取样序列的每个取样晶粒的对应于区域定义单元的最亮和最暗区域的位置放置光发射头,获取反馈回来的光强灰阶值,并对两个所述光发射头的光强值进行叠加,再通过放大及补偿得到机台设定的最大及最小区间,进而以此作为机台提供给晶圆的光强条件。

7.如权利要求6所述的一种亮场缺陷检测设备自动优化光强条件的系统,其特征在于:所述预扫描单元自动选取一个位于晶圆中心的晶粒作为取样晶粒进行预扫描,将取样晶粒置于聚焦光路下,收集不同电路特征区域反馈回来的光强信号,获取反馈回来的光强灰阶值。

8.如权利要求7所述的一种亮场缺陷检测设备自动优化光强条件的系统,其特征在于:所述区域定义单元按照灰阶值的大小定义最亮和最暗的区域,当最亮及最暗区域定义好后,将光发射头放到最亮和最暗的区域的中心位置。

9.如权利要求6所述的一种亮场缺陷检测设备自动优化光强条件的系统,其特征在于:所述光强调节优化单元选取从晶圆中心至晶圆边缘的5到10个晶粒为取样序列进行扫描,分别在所述取样序列的每个取样晶粒的对应于步骤二的最亮和最暗区域的位置放置光发射头,光接收头在取样晶粒的整个区域进行扫描接收返回光强信号,获取反馈回来的光强灰阶值。

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