[发明专利]用于超高真空腔体的等离子体清洗抛光装置

说明书

本发明提供一种用于超高真空腔体的等离子体清洗抛光装置，其包括放电电极、储气罐和抽气泵，所述放电电极位于待清洗的超高真空腔体内，所述待清洗的超高真空腔体的底壁上嵌设电极座，所述放电电极的一端插设于所述电极座内，所述电极座与直流电源电连接，所述储气罐与所述待清洗的超高真空腔体的一端相连，所述抽气泵与所述待清洗的超高真空腔体的另一端相连。本发明能在超高真空腔体内壁无损的情况下实现清洗和抛光，节能环保。

技术领域

本发明涉及真空技术领域，具体是一种超高真空腔体内表面处理装置，更具体的是一种用于超高真空腔体的等离子体清洗抛光装置。

背景技术

目前，超高真空系统是进行现代工件表面分析及研究的主要场所，在工件表面分析技术中使用超高真空系统也是非常必要的：首先，要分析的低能电子信号很容易被残余气体分子所散射，使得谱的总信号减弱，只有在超高真空条件下，低能电子才能获得足够长的平均自由程，而不被散射损失掉；其次，超高真空环境是表面分析技术中的表面灵敏性所必须的，在10^-6mbar的高真空下，大约1秒钟就会有一个单层的气体吸附在固体表面，这与典型的谱图采集时间相比就太短了，因此在分析过程中就需要超高真空环境来保持样品表面的清洁；最后，表面灵敏分析技术对样品表面清洁度的要求比其它分析技术要高得多，清洁的表面的制备和维持是十分必要的，而对表面的分析需要在超高真空中进行，才能保证表面不会在分析过程中被污染。

而为了使超高真空系统达到要求的真空度，必须保证其真空管道或腔室的内表面的清洁，目前，清洗真空管道或腔室常用的方法是机械拉丝抛光和化学清洗相结合，但是，该方法存在如下不足之处：(1)机械拉丝抛光很容易使被清洗的物体表面出现磨损，清洗不彻底，无法满足高洁净度清洗的要求，且劳动强度较大，需要设备停止工作才可进行，(2)化学清洗方法虽然能够使物体表面不出现磨损，但需要反复清洗，且如果对化学清洗液选择不当，会对清洗物造成腐蚀破坏，产生损失，还可能会引入新的杂质，且化学清洗排放的废液会造成环境污染，化学药剂的操作处理不当也会对人的健康和安全造成危害。

对于现有技术中的等离子体清洗装置，其主要用来清除表面积很小的腔体内部的水汽，采用的功率较小，放电电流为1mA以下，且现有的射频放电或微波放电等离子体清洗装置结构复杂，易泄漏，容易对环境和操作人员造成辐射。

有鉴于上述现有技术存在的问题，本发明人结合相关制造领域多年的设计及使用经验，提供一种用于超高真空腔体的等离子体清洗抛光装置，来克服上述缺陷。

发明内容

本发明的目的是提供一种用于超高真空腔体的等离子体清洗抛光装置，其能在超高真空腔体内壁无损的情况下实现清洗和抛光，节能环保。

本发明的上述目的可采用下列技术方案来实现：

本发明提供一种用于超高真空腔体的等离子体清洗抛光装置，其包括放电电极、储气罐和抽气泵，所述放电电极位于待清洗的超高真空腔体内，所述待清洗的超高真空腔体的底壁上嵌设电极座，所述放电电极的一端插设于所述电极座内，所述放电电极通过所述电极座与直流电源电连接，所述储气罐与所述待清洗的超高真空腔体的一端相连，所述抽气泵与所述待清洗的超高真空腔体的另一端相连。

在优选的实施方式中，所述待清洗的超高真空腔体的底壁上设有开孔，所述电极座包括插设于所述开孔内的插入部和位于所述待清洗的超高真空腔体外的基体部，所述插入部上套设密封铜垫圈，所述密封铜垫圈位于所述基体部与所述待清洗的超高真空腔体的底壁之间。

在优选的实施方式中，所述储气罐通过进气阀与所述待清洗的超高真空腔体相连，所述进气阀与所述待清洗的超高真空腔体之间设置密封铜垫圈。

在优选的实施方式中，所述抽气泵通过泄气阀与所述待清洗的超高真空腔体相连，所述泄气阀与所述待清洗的超高真空腔体之间设置密封铜垫圈。