[发明专利]用于超高真空腔体的等离子体清洗抛光装置

权利要求书

1.一种用于超高真空腔体的等离子体清洗抛光装置，其特征在于，所述用于超高真空腔体的等离子体清洗抛光装置包括放电电极、储气罐和抽气泵，所述放电电极位于待清洗的超高真空腔体内，所述待清洗的超高真空腔体的底壁上嵌设电极座，所述放电电极的一端插设于所述电极座内，所述放电电极通过所述电极座与直流电源电连接，所述储气罐与所述待清洗的超高真空腔体的一端相连，所述抽气泵与所述待清洗的超高真空腔体的另一端相连；

所述待清洗的超高真空腔体的底壁上设有开孔，所述电极座包括插设于所述开孔内的插入部和位于所述待清洗的超高真空腔体外的基体部，所述插入部上套设密封铜垫圈，所述密封铜垫圈位于所述基体部与所述待清洗的超高真空腔体的底壁之间。

2.根据权利要求1所述的用于超高真空腔体的等离子体清洗抛光装置，其特征在于，所述储气罐通过进气阀与所述待清洗的超高真空腔体相连，所述进气阀与所述待清洗的超高真空腔体之间设置密封铜垫圈。

3.根据权利要求1所述的用于超高真空腔体的等离子体清洗抛光装置，其特征在于，所述抽气泵通过泄气阀与所述待清洗的超高真空腔体相连，所述泄气阀与所述待清洗的超高真空腔体之间设置密封铜垫圈。

4.根据权利要求1所述的用于超高真空腔体的等离子体清洗抛光装置，其特征在于，所述用于超高真空腔体的等离子体清洗抛光装置还包括离子规、气体分析器、泵车和四通阀，所述四通阀包括的一个进口和三个出口，所述四通阀的进口通过连接管道与所述待清洗的超高真空腔体相连，所述四通阀的三个出口分别与所述离子规、所述气体分析器和所述泵车相连。

5.根据权利要求1所述的用于超高真空腔体的等离子体清洗抛光装置，其特征在于，所述放电电极的直径为0.5mm～5mm，所述放电电极的长度为0.1m～1m。

6.根据权利要求1所述的用于超高真空腔体的等离子体清洗抛光装置，其特征在于，所述待清洗的超高真空腔体内的放电气压为10mbar～10^-2mbar。

7.根据权利要求1所述的用于超高真空腔体的等离子体清洗抛光装置，其特征在于，所述直流电源的输入功率与所述待清洗的超高真空腔体的内表面积成正比。

8.根据权利要求1所述的用于超高真空腔体的等离子体清洗抛光装置，其特征在于，所述放电电极由铜、钼、钛、铬镍铁合金、不锈钢或钽制成。

9.根据权利要求1所述的用于超高真空腔体的等离子体清洗抛光装置，其特征在于，所述储气罐内的气体为氧气、氮气或氩气。