[发明专利]根据电路设计图形设置扫描阈值的方法

权利要求书

1.一种根据电路设计图形设置扫描阈值的方法，其特征在于：在光学检测机台内设置一包含有电路设计图形数据库的处理模块，所述处理模块通过对比扫描部分所得到的数字灰阶图像和电路设计图形数据库中所提取该数字灰阶图像所在坐标尺寸的电路设计图形，划分缺陷信号点的落点位置；根据数字灰阶图像中缺陷信号差异点的所在的像素位置，与相应的电路设计图形进行比对，从而判断和区分该差异点信号处在当层设计图形中的曝光位置或非曝光位置；之后，将扫描得到的缺陷信号点按照落在曝光位置、非曝光位置以及曝光和非曝光交界位置分在三个不同的类别内；最后，在扫描程式建立时的阈值参数设定步骤中，在同一扫描区域中，将分落在三个类别内的缺陷信号分别设置扫描阈值参数，即按照缺陷信号点在当层图形中落点位置设置扫描阈值。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于：按照多层图形上的曝光位置、非曝光位置以及曝光和非曝光交界位置区分缺陷，共分为3n类，n为图形的层数，且为大于1的整数。

3.一种根据电路设计图形设置扫描阈值的方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤1、建立电路设计图形数据库，用以提供与产品、站点相应的电路设计图形数据；

步骤2、采用光学手段进行晶圆缺陷扫描，得到缺陷信号坐标分布图及其数字灰阶图像；

步骤3、在电路设计图形数据库中搜索缺陷信号坐标所处的位置，并按照缺陷信号落在曝光位置、非曝光位置以及曝光和非曝光交界位置分在三个不同的类别内；

步骤4、在同一扫描区域中，按照上述三个类别，分别设置扫描阈值参数，即按照缺陷信号点在当层图形中落点位置设置扫描阈值。

4.如权利要求3所述的方法，其特征在于：实施步骤2时，对比光学缺陷检测机台扫描得到的数字灰阶图像和电路设计图形，划分缺陷信号点的落点位置。

5.如权利要求3所述的方法，其特征在于：实施步骤3时，按照当层图形上的曝光位置、非曝光位置以及曝光和非曝光交界位置区分缺陷，共分为3类。

6.如权利要求3所述的方法，其特征在于：按照多层图形上的曝光位置、非曝光位置以及曝光和非曝光交界位置区分缺陷。

7.如权利要求6所述的方法，其特征在于：所述多层图形为n层，n为大于1的整数，所述缺陷共分为3n类。