[发明专利]一种含高空间位阻基团修饰的Pd-NHC配合物及用途有效

专利信息
申请号: 201711179432.3 申请日: 2017-11-23
公开(公告)号: CN108690086B 公开(公告)日: 2021-03-23
发明(设计)人: 刘桂艳;韩方外;刘成鑫;徐颖 申请(专利权)人: 天津师范大学
主分类号: C07F15/00 分类号: C07F15/00;B01J31/22;C07C1/32;C07C15/14
代理公司: 天津市杰盈专利代理有限公司 12207 代理人: 朱红星
地址: 300387 *** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 一种 高空 间位 基团 修饰 pd nhc 配合 用途
【说明书】:

发明公开了一种含高空间位阻基团修饰的Pd‑NHC配合物(以及的配合物单晶)及用途。本发明所述的Pd‑NHC配合物是以含高空间位阻基团修饰的N‑杂环卡宾为配体,同时还选用三苯甲基咪唑作为辅助配体。本发明所述含高空间位阻基团修饰的Pd‑NHC配合物具有较高的稳定性,它还能作为催化剂很好的催化具有空间位阻的氯代芳烃和芳基硼酸的Suzuki‑Miyaura偶联反应。

本发明得到天津市自然科学基金(16JCYBJC19700)的资助。

技术领域

本发明涉及一种金属有机配位化合物(配合物)及其用途,特别涉及含高空间位阻基团修饰的金属有机配合物及用途,确切地说是一种含高空间位阻基团修饰的Pd-NHC配合物及用途。

背景技术

Suzuki-Miyaura偶联反应是构建碳碳键的最基础的方法之一,而钯配合物作为常用催化剂受到人们的广泛关注,钯配合物中起重要作用的配体也在不断更新,与磷配体相比,N-杂环卡宾配体和氮配体强的供电子能力更强,配位效果更好,因此,由N-杂环卡宾配体和氮配体修饰的钯催化剂越来越受到人们的重视。

发明内容

本发明的目的在于提供一种新型含高空间位阻基团修饰的Pd-NHC配合物及用途。

本发明是通过以下技术方案实现的:

一种含高空间位阻基团修饰的Pd-NHC配合物及用途具有如下结构式:

本发明进一步公开了Pd-NHC配合物的单晶数据如下:

本发明更进一步公开了Pd-NHC配合物的合成方法:

主要包括反应、分离和纯化,Pd-NHC配合物的合成方法包括反应、分离和纯化,其特征是以对三苯基甲基苯胺为原料与40%的乙二醛溶液及乙醇反应,加热到80oC回流4h,过滤后得到的固体用适量甲醇洗,得到亚胺化合物;该亚胺化合物再与多聚甲醛反应,抽真空通氮气,加入乙酸乙酯并加热到反应液回流,趁热缓慢滴入三甲基氯硅烷,继续回流12h,趁热过滤得到的固体用适量乙酸乙酯和乙醚洗去杂质,得到相应的咪唑盐;该咪唑盐再与三苯甲基咪唑在碱性条件下反应,得到所述Pd-NHC配合物。将所得Pd-NHC配合物溶于二氯甲烷/石油醚混合溶剂中慢慢挥发得到相应的单晶。

本发明更进一步公开了含有高空间位阻基团修饰的Pd-NHC配合物(以及的配合物单晶)在具有空间位阻的氯代芳烃和芳基硼酸的Suzuki-Miyaura偶联反应具有超高催化性能。实验结果显示,当选用弱碱磷酸钾作为碱,H2O/i-PrOH(1:1)作为溶剂,以含有高空间位阻基团修饰的Pd-NHC配合物作为催化剂,催化具有空间位阻的氯代芳烃和苯硼酸的Suzuki-Miyaura偶联反应,其中具有空间位阻的氯代芳烃,苯硼酸和弱碱磷酸钾的投料比为:1:1.5:2,在室温条件下,反应18h,仅用0.0005当量催化剂,反应产率就能达到95%以上。

本发明公开的含有高空间位阻基团修饰的Pd-NHC配合物I, II和III的特点在于:

(a) 含有高空间位阻基团修饰的Pd-NHC配合物结构新颖,目前未见和其结构完全相同的报道。

(b) 本发明所制备的Pd-NHC配合物(以及配合物单晶)可很好的应用于催化具有空间位阻的氯代芳烃和芳基硼酸的Suzuki-Miyaura偶联反应,并显示出超高的催化性能。目前还未发现任何一种催化剂在室温条件,用如此小的催化剂用量(0.0005当量)、如此短的时间得到如此高的产率。

附图说明

图1:Pd-NHC配合物的晶体结构图。

具体实施方式

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