[发明专利]一种含高空间位阻基团修饰的Pd-NHC配合物及用途有效
| 申请号： | 201711179432.3 | 申请日： | 2017-11-23 |
| 公开（公告）号： | CN108690086B | 公开（公告）日： | 2021-03-23 |
| 发明（设计）人： | 刘桂艳;韩方外;刘成鑫;徐颖 | 申请（专利权）人： | 天津师范大学 |
| 主分类号： | C07F15/00 | 分类号： | C07F15/00;B01J31/22;C07C1/32;C07C15/14 |
| 代理公司： | 天津市杰盈专利代理有限公司 12207 | 代理人： | 朱红星 |
| 地址： | 300387 *** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 高空 间位 基团 修饰 pd nhc 配合 用途 | ||
【权利要求书】：
1.含高空间位阻基团修饰的Pd-NHC配合物具有如下结构式：
。
2.权利要求1所述含高空间位阻基团修饰的Pd-NHC配合物作为催化剂，在氯代芳烃和芳基硼酸的Suzuki-Miyaura偶联反应中的应用。
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