[发明专利]用于晶圆刻蚀的升降装置

说明书

本发明属于半导体技术领域，具体涉及一种用于晶圆刻蚀的升降装置。本发明所述的用于晶圆刻蚀的升降装置，其中包括升降杆、与所述升降杆固定连接的支撑件，所述升降杆和所述支撑件上均设有齿轮传动单元，所述支撑件上还设有用于支撑并能够使晶圆转动的导向单元，所述齿轮传动单元的输出端与所述导向单元的输入端传动连接，从而驱动所述导向单元完成对晶圆的转动。通过使用本发明所述的用于晶圆刻蚀的升降装置，能够将刻蚀过程中的晶圆进行转动，有效地对晶圆表面进行均匀的刻蚀，提高晶圆表面质量。

技术领域

本发明属于半导体技术领域，具体涉及一种用于晶圆刻蚀的升降装置。

背景技术

现有技术中，在湿法工艺晶圆进行刻蚀时，需要将晶圆整体浸泡在晶圆刻蚀反应槽的内部，并固定于晶圆支架上。由于浸泡式清洗机酸槽内的酸液一直是从反应槽的底部进行供应，从反应槽的顶部进行溢出，而在这个过程中，酸液一直在跟晶圆上的膜起反应，所以酸槽顶部的局部浓度会低于酸槽底部的浓度，也就是说酸槽底部的酸液蚀刻率要比酸槽顶部的酸液蚀刻率高。在晶圆蚀刻过程时间较短的时候，晶圆表面的蚀刻不均匀性表现的不是很明显，但当长时间将晶圆浸泡在酸槽溶液中时，这种晶圆表面的蚀刻不均匀性便会凸显出来，具体表现为晶圆底部的蚀刻率高，晶圆顶部的蚀刻率低。

发明内容

本发明的目的是为了解决上述存在的至少一个问题，该目的是通过以下技术方案实现的。

本发明所述的用于晶圆刻蚀的升降装置，其中包括升降杆、与所述升降杆固定连接的支撑件，所述升降杆和所述支撑件上均设有齿轮传动单元，所述支撑件上还设有用于支撑并能够使晶圆转动的导向单元，所述齿轮传动单元的输出端与所述导向单元的输入端传动连接，从而驱动所述导向单元完成对晶圆的转动。

进一步地，所述支撑件包括第一支撑件和第二支撑件，所述第一支撑件固定连接于所述升降杆的顶部，所述第二支撑件固定连接于所述第二支撑件的侧面，所述导向单元通过能够转动的方式连接于所述第二支撑件的底部。

进一步地，所述齿轮传动单元包括第一圆柱齿轮、第二圆柱齿轮、第三圆柱齿轮、第一圆锥齿轮和第二圆锥齿轮，所述第一圆柱齿轮设于所述升降杆的顶部，所述第二圆柱齿轮和所述第三圆柱齿轮共同设于所述第一支撑件的顶部，且所述第二圆柱齿轮与所述第一圆柱齿轮相啮合，所述第三圆柱齿轮与所述第二圆柱齿轮相啮合，所述第一圆锥齿轮通过连接杆设于所述第三圆柱齿轮的底部并与所述第三圆柱齿轮同轴设置，所述第二圆锥齿轮设于所述第二支撑件的侧面并与所述第一圆锥齿轮相啮合，且所述第二圆锥齿轮的端面与所述导向单元的输入端相连接。

进一步地，所述第一圆柱齿轮、所述第二圆柱齿轮和所述第三圆柱齿轮均为直齿轮。

进一步地，所述导向单元包括第一导向杆、第二导向杆和第三导向杆，所述第一导向杆的第一端穿过所述第二支撑件并与所述第二圆锥齿轮的端面相连接，且所述第一导向杆的第一端能够与所述第二支撑件之间发生转动，所述第二导向杆和所述第三导向杆的第一端同样穿过所述第二支撑件并能够与所述第二支撑件之间发生转动，所述第一导向杆、所述第二导向杆和所述第三导向杆的第二端用于支撑所述晶圆。

进一步地，所述第一导向杆、所述第二导向杆和所述第三导向杆之间设定为等腰三角形，所述第二导向杆和所述第三导向杆处于同一竖直高度且高于所述第一导向杆的高度。

进一步地，所述第一导向杆、所述第二导向杆和所述第三导向杆上均设有密封轴承，所述密封轴承固定连接于所述第二支撑件上。

进一步地，所述第一导向杆、所述第二导向杆和所述第三导向杆的外圆周面上设有多个能够支撑所述晶圆的定位槽。

进一步地，还包括导向杆连接架，所述第一导向杆、所述第二导向杆和所述第三导向杆的第二端共同连接于所述导向杆连接架。

进一步地，所述第一导向杆、所述第二导向杆和所述第三导向杆上均设有防酸涂层。