[发明专利]阵列基板及其制作方法、柔性显示面板、柔性显示器在审
申请号: | 201711165143.8 | 申请日: | 2017-11-21 |
公开(公告)号: | CN107703672A | 公开(公告)日: | 2018-02-16 |
发明(设计)人: | 查国伟 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/1335 | 分类号: | G02F1/1335;G02F1/13357;H01L27/12;H01L21/77 |
代理公司: | 广州三环专利商标代理有限公司44202 | 代理人: | 郝传鑫,熊永强 |
地址: | 430070 湖北省武汉市武*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 阵列 及其 制作方法 柔性 显示 面板 显示器 | ||
1.一种阵列基板,其特征在于,包括柔性基底和依次层叠在所述柔性基底表面的介质层与金属线栅层,所述柔性基底背离所述介质层的表面具有散射结构。
2.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述金属线栅层包括平行排布的金属线,所述金属线之间的排布间隔为20-500nm,所述金属线的占空比为0.1-0.9。
3.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述散射结构为形成在所述柔性基板表面或者内部的网点结构。
4.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述介质层的材质包括SiO2、SiO、MgO、Si3N4、TiO2和Ta2O5中的一种或多种。
5.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述柔性基底为一导光板。
6.一种柔性显示面板,其特征在于,包括权利要求1-5任一项阵列基板,液晶层和彩膜基板,所述液晶层夹持在所述彩膜基板和所述阵列基板之间。
7.一种阵列基板的制作方法,其特征在于,包括以下步骤:
提供硬质基板;
在所述硬性基板上制备柔性基底,在所述柔性基底中形成散射结构;
在所述柔性基底上制备介质层,所述散射结构位于所述柔性基底背离所述介质层的表面;
在所述介质层上形成金属层,并图案化金属层形成金属线栅层;
在所述金属线栅层上依次制备间隔层和薄膜晶体管驱动层;
剥离所述硬质基板,得到阵列基板。
8.如权利要求7所述的制作方法,其特征在于,所述在所述柔性基底中形成散射结构包括:
在所述硬性基板上制备凸、凹型的网点结构,然后在所述硬质基板具有凸、凹型的网点结构的表面上制备柔性基底。
9.如权利要求7所述的制作方法,其特征在于,所述金属线栅层包括平行排布的金属线,所述金属线之间的排布间隔为20-500nm。
10.一种柔性显示器,其特征在于,包括如权利要求6所述的柔性显示面板及背光源,所述背光源为所述柔性显示面板提供光源。
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