[发明专利]显影液过滤系统及显影液的过滤方法

说明书

一种显影液过滤系统，包含一循环过滤模块以及一第二过滤器。循环过滤模块包含一容置槽、至少一第一过滤器以及一流体控制器。容置槽是选择地连通于一显影液供应槽，并接收来自显影液供应槽的一显影液。至少一第一过滤器是被配置以过滤循环过滤模块的一循环回路中的显影液。流体控制器是被配置以选择地输出来自第一过滤器的显影液至一检测级。第二过滤器是设置于显影液供应槽与容置槽之间或设置于流体控制器与检测级之间，并被配置以过滤来自显影液供应槽或来自第一过滤器的显影液。第二过滤器包含一高密度聚乙烯过滤膜。

技术领域

本公开实施例涉及一种半导体制造技术，特别涉及一种过滤提供给光刻制程使用的显影液的过滤系统以及将显影液过滤的方法。

背景技术

近年来，半导体集成电路(semiconductor integrated circuits)经历了指数级的成长。在集成电路材料以及设计上的技术进步下，产生了多个世代的集成电路，其中每一世代较前一世代具有更小更复杂的电路。在集成电路发展的过程中，当几何尺寸(亦即，制程中所能产出的最小元件或者线)缩小时，功能密度(亦即，每一晶片区域所具有的互连装置的数目)通常会增加。一般而言，此种尺寸缩小的制程可以提供增加生产效率以及降低制造成本的好处，然而，此种尺寸缩小的制程亦会增加制造与生产集成电路的复杂度。

在半导体元件制造中，光刻制程(lithography)扮演了相当重要的角色，其用于在晶圆上形成所需的特定图案。光刻制程的基本步骤包括，形成光刻胶层于晶圆表面上，刻印或曝光例如具特定电路布局的图案于光刻胶层上，以及通过供应显影液至光刻胶层上以去除光刻胶层的不需要的部分，进而能在晶圆上形成所需的特定图案。

虽然现有的半导体制造机台(包括显影液过滤系统)已经可符合上述一般的目的，但这些半导体制造机台及过滤方法仍不能在各方面令人满意。

发明内容

本公开一些实施例提供一种显影液过滤系统，包含一循环过滤模块以及一第二过滤器。循环过滤模块包含一容置槽、至少一第一过滤器以及一流体控制器。容置槽是选择地连通于一显影液供应槽，并接收来自显影液供应槽的一显影液。至少一第一过滤器是被配置以过滤循环过滤模块的一循环回路中的显影液。流体控制器是被配置以选择地输出来自第一过滤器的显影液至一检测级。第二过滤器是设置于显影液供应槽与容置槽之间或设置于流体控制器与检测级之间，被配置以过滤来自显影液供应槽或来自第一过滤器的显影液。其中第二过滤器包含一高密度聚乙烯(High Density Polyethylene)过滤膜。

本公开实施例另提供一种显影液过滤系统，包含一循环过滤模块、一第二过滤器以及一冷却装置。循环过滤模块包含一容置槽、至少一第一过滤器以及一流体控制器。容置槽是选择地连通于一显影液供应槽，并接收来自显影液供应槽的一显影液。至少一第一过滤器是被配置以过滤循环过滤模块的一循环回路中的显影液。流体控制器是被配置以选择地输出来自第一过滤器的显影液至一检测级。第二过滤器是设置于显影液供应槽与容置槽之间或设置于流体控制器与检测级之间，被配置以过滤来自显影液供应槽或来自第一过滤器的显影液。冷却装置是连接第二过滤器，被配置以降低流经第二过滤器的显影液的温度。

本公开实施例提供一种显影液的过滤方法，包含提供一显影液至一循环回路。显影液的过滤方法还包含于循环回路中以一第一过滤器过滤显影液。再者，显影液的过滤方法还包含由循环回路输出显影液至一检测级。显影液的过滤方法还包含降低显影液的温度。另外，显影液的过滤方法还包含通过一第二过滤器过滤提供至循环回路前的显影液、循环回路中的显影液或循环回路输出的显影液。

附图说明

图1为本公开一些实施例的显影液过滤系统以及连接于显影液过滤系统的一检测级与一处理腔室的方块示意图。

图2为本公开一些实施例的处理腔室的示意图。

图3为本公开另一实施例的显影液过滤系统、检测级与处理腔室的方块示意图。