[发明专利]一种二氧化钒纳米团簇及其制备方法

权利要求书

1.一种二氧化钒纳米团簇的制备方法，其特征在于，其包括：

金属钒纳米团簇沉积：采用气体磁控溅射的方式将金属钒靶材溅射沉积到沉积室的衬底上；

后退火处理：对沉积在所述衬底上的所述金属钒纳米团簇进行加热，并在所述沉积室中引入氧气，完成对所述金属钒纳米团簇的退火处理。

2.根据权利要求1所述的二氧化钒纳米团簇的制备方法，其特征在于，所述金属钒靶材的纯度为99.9％，所述金属钒靶材的直径为50mm，厚度为3mm。

3.根据权利要求1所述的二氧化钒纳米团簇的制备方法，其特征在于，在进行气体磁控溅射过程中，溅射、缓冲气体采用纯度为99.99％的氩气。

4.根据权利要求1所述的二氧化钒纳米团簇的制备方法，其特征在于，所述衬底采用厚度为500μm的单晶氧化铝或TEM铜网。

5.根据权利要求1-4任意一项所述的二氧化钒纳米团簇的制备方法，其特征在于，所述金属钒靶材溅射沉积过程中依次进行了管道清洗和团簇沉积，其中，团簇沉积过程中，真空度为10^-4Pa，溅射、缓冲气体的流量为20％-30％，溅射功率为40-60W，沉积时间为5-30min。

6.根据权利要求5所述的二氧化钒纳米团簇的制备方法，其特征在于，所述金属钒靶材溅射沉积过程中，还采用晶振对团簇束流的大小进行了检测，并选出了的团簇束流。

7.根据权利要求5所述的二氧化钒纳米团簇的制备方法，其特征在于，团簇沉积过程中，还对飞行中的金属钒团簇进行了液氮处理。

8.根据权利要求1所述的二氧化钒纳米团簇的制备方法，其特征在于，对所述金属钒纳米团簇进行加热时的温度为500℃，且保持30-60min的时间完成退火。

9.根据权利要求8所述的二氧化钒纳米团簇的制备方法，其特征在于，引入所述氧气时，采用质量流量计引入，并使所述沉积室的真空度控制在30-50Pa。

10.一种二氧化钒纳米团簇，其特征在于，所述二氧化钒纳米团簇是通过权利要求1-9任意一项所述的二氧化钒纳米团簇的制备方法制得。