[发明专利]具有转动单元的辊对辊制造系统有效
申请号: | 201711156167.7 | 申请日: | 2017-11-20 |
公开(公告)号: | CN108123068B | 公开(公告)日: | 2020-06-30 |
发明(设计)人: | 金南国;李承烈;朴帝俊;宋泰俊;李臣馥;李敬勋 | 申请(专利权)人: | 乐金显示有限公司 |
主分类号: | H01L51/56 | 分类号: | H01L51/56 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 李辉;刘久亮 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 转动 单元 制造 系统 | ||
1.一种辊对辊制造系统,该辊对辊制造系统包括:
提供膜的膜提供辊;
收集所述膜的膜收集辊;
多个沉积单元,所述多个沉积单元位于所述膜提供辊与所述膜收集辊之间,并在所述膜的沉积表面上形成沉积材料;以及
转动单元,所述转动单元位于所述沉积单元之间,包括多个转动辊并在所述膜的非沉积表面和所述沉积表面被转动的状态下引导从一个沉积单元输出的所述膜从而将所述膜提供给另一个沉积单元,使得所述膜的所述沉积表面不与所述多个转动辊接触,
其中,所述多个转动辊能够移动,使得所述转动辊之间的相对距离是可变的,并且所述多个转动辊的移动根据在所述沉积单元处的沉积时间来确定,所述多个沉积单元彼此同步。
2.根据权利要求1所述的辊对辊制造系统,其中,所述沉积单元包括:
沉积鼓,所述沉积鼓上缠绕有提供的所述膜;
多个掩模驱动辊,所述多个掩模驱动辊驱动开口掩模,使得所述开口掩模被布置在所述膜的所述沉积表面上;以及
至少一个蒸发器,所述至少一个蒸发器面对将所述沉积材料沉积在所述膜上的所述沉积鼓。
3.根据权利要求2所述的辊对辊制造系统,其中,所述沉积鼓使缠绕的所述膜冷却。
4.根据权利要求3所述的辊对辊制造系统,其中,所述沉积鼓包括使所述膜冷却的冷却器。
5.根据权利要求4所述的辊对辊制造系统,其中,所述冷却器包括制冷剂。
6.根据权利要求2所述的辊对辊制造系统,其中,所述至少一个蒸发器包括空穴注入材料蒸发器、空穴传输材料蒸发器、有机发光材料蒸发器、电子传输材料蒸发器、电子注入材料蒸发器和金属蒸发器。
7.一种辊对辊制造系统,该辊对辊制造系统包括:
提供膜的膜提供辊;
收集所述膜的膜收集辊;
第一沉积单元和第二沉积单元,所述第一沉积单元和所述第二沉积单元位于所述膜提供辊与所述膜收集辊之间,并在所述膜的沉积表面上形成沉积材料;
转动单元,所述转动单元位于所述第一沉积单元和所述第二沉积单元之间,包括多个转动辊并在所述膜的非沉积表面和所述沉积表面被转动的状态下引导从所述第一沉积单元输出的所述膜,使得所述膜的所述沉积表面不与所述多个转动辊接触;以及
引导辊,所述引导辊在所述第一沉积单元与所述第二沉积单元之间引导膜,
其中,所述多个转动辊能够移动,使得所述转动辊之间的相对距离是可变的,并且所述多个转动辊的移动根据在所述第一沉积单元和所述第二沉积单元处的沉积时间来确定,所述第一沉积单元和所述第二沉积单元彼此同步。
8.根据权利要求7所述的辊对辊制造系统,其中,所述沉积单元包括:
沉积鼓,所述沉积鼓上缠绕有提供的所述膜;
多个掩模驱动辊,所述多个掩模驱动辊驱动开口掩模,使得所述开口掩模被布置在所述膜的所述沉积表面上;以及
至少一个蒸发器,所述至少一个蒸发器面对将所述沉积材料沉积在所述膜上的所述沉积鼓。
9.根据权利要求8所述的辊对辊制造系统,其中,所述沉积鼓使缠绕的所述膜冷却。
10.根据权利要求9所述的辊对辊制造系统,其中,所述沉积鼓包括使所述膜冷却的冷却器。
11.根据权利要求10所述的辊对辊制造系统,其中,所述冷却器包括制冷剂。
12.根据权利要求8所述的辊对辊制造系统,其中,所述至少一个蒸发器包括空穴注入材料蒸发器、空穴传输材料蒸发器、有机发光材料蒸发器、电子传输材料蒸发器、电子注入材料蒸发器和金属蒸发器。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于乐金显示有限公司,未经乐金显示有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201711156167.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种荫罩及其制造方法
- 下一篇:一种压平装置、显示基板及其制备方法
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择