[发明专利]TFT阵列基板及其制作方法以及液晶显示面板有效

专利信息
申请号: 201711140867.7 申请日: 2017-11-16
公开(公告)号: CN107768386B 公开(公告)日: 2020-09-01
发明(设计)人: 徐洪远 申请(专利权)人: 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77;G02F1/1362
代理公司: 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 代理人: 林才桂
地址: 518132 广东省深*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: tft 阵列 及其 制作方法 以及 液晶显示 面板
【权利要求书】:

1.一种TFT阵列基板,其特征在于,包括:

基板(1);

设在所述基板(1)上的扫描线(21);

设在所述基板(1)上并连接所述扫描线(21)的栅极(22),所述栅极(22)采用透明导电材料;

覆盖所述基板(1)、扫描线(21)与栅极(22)的栅极绝缘层(3);

设在栅极绝缘层(3)上的多条硅基纳米线(4),所述多条硅基纳米线(4)的投影落在所述栅极(22)上;

设在所述栅极绝缘层(3)上并与扫描线(21)绝缘交叉的数据线(51);

设在所述栅极绝缘层(3)上连接所述数据线(51)并接触所述多条硅基纳米线(4)的源极(52);

设在所述栅极绝缘层(3)上并接触所述多条硅基纳米线(4)的漏极(53);

覆盖所述栅极绝缘层(3)、硅基纳米线(4)、数据线(51)、源极(52)与漏极(53)的钝化层(6);

以及设在所述钝化层(6)上的像素电极(7),所述像素电极(7)经由贯穿所述钝化层(6)的过孔(61)接触所述漏极(53);

所述栅极(22)、多条硅基纳米线(4)、源极(52)及漏极(53)构成TFT(20);所述像素电极(7)遮盖住所述TFT(20)所占据的区域;

所述源极(52)呈梳齿状,包括数条相互平行的源极分支(521),每一源极分支(521)与所述多条硅基纳米线(4)交叉接触;所述漏极(53)呈梳齿状,包括数条相互平行的漏极分支(531),每一漏极分支(531)与所述多条硅基纳米线(4)交叉接触;

所述源极分支(521)与漏极分支(531)间隔排布;

所述源极分支(521)与漏极分支(531)的宽度均小于2μm。

2.如权利要求1所述的TFT阵列基板,其特征在于,所述栅极(22)采用的透明导电材料为氧化铟锡,所述扫描线(21)包括与所述栅极(22)同层的底层(211)及层叠在所述底层(211)上的金属层图案(212),所述底层(211)的材料与所述栅极(22)的材料相同。

3.如权利要求1所述的TFT阵列基板,其特征在于,所述硅基纳米线(4)的直径为50nm~100nm。

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