[发明专利]基于规则的OPC方法

说明书

本发明公开了一种基于规则的OPC方法，包括：步骤一、输入初始图形；步骤二、选择不作移动的图形边；步骤三、选择规则二图形边，该图形边记为B2；步骤四、选择规则一图形边，该图形边记为B1；步骤五、设定图形边移动规则一；步骤六、根据规则一移动图形边B1，得到的图形记为T1；步骤七、选择图形T1中与图形边B2的共边，该共边记为B21；步骤八、设定图形边移动规则二；步骤九、根据移动规则二移动图形边B21；步骤十、输出图形。本发明能够使经过OPC处理后的修正图形不会产生多余的凹凸。

技术领域

本发明涉及微电子版图数据光学修正领域，特别是涉及一种基于规则的OPC(光学临近修正)方法。

背景技术

在深亚微米微影工艺中，光学临近效应已经成为光刻工艺流程必须考虑的因素，而OPC技术已经广泛应用于集成电路的制造流程中。基于规则的OPC方法广泛应用于补偿因图形密度不同引起的CD(关键尺寸)差异，并且在基于模型的OPC方法得到推广之后，仍经常用于选择性尺寸调整等步骤，用以增加光刻工艺窗口等目的。

表1

基于规则的OPC方法通过收集一系列硅片数据，从而建立一套基于图形尺寸的规则，并用适当的OPC工具实现这些规则。规则一般指根据图形的线宽和间距，将对应的图形边做出相应的移动，如上表1所示。

由于同一图形不同位置所处环境差异，同一图形不同位置的偏移量可能不同，从而产生一些图形凹凸。这些图形凹凸既可能导致后续基于模型OPC方法产生修正弱点，也会影响掩模板制作精度，因此应该尽量避免或减少图形上的凹凸。

Mentor公司的SVRF(标准验证规则格式)语言是实现基于规则的OPC方法的常用工具，通过将如表1所示的规则表翻译成SVRF语句，实现对目标图形的修正。在修正过程中，首先测量图形边片段的间距和线宽，并根据间距和线宽值做出相应的移动，测量中如果没有做一定的偏置，就会导致移动后的图形产生违反设计规则的情况，如图2和图3所示，其中，图2中箭头所指示的位置为间距违反设计规则，图3中箭头所指示的位置为线宽违反设计规则；而在测量图形边的间距和线宽时作一定的偏置，就可以避免上述情况，如图4和图5所示，其中，图4双箭头所指示的是间距偏置量，图5双箭头所指示的是线宽偏置量。

使用测量偏置的方法能很好的解决移动图形边后产生违反设计规则问题，但是也会导致一些特殊形状图形产生多余的凹凸，比如对于具有锤头状的图形，由于测量偏置后图形边的线宽变得不同，因此偏移量也有所不同，从而导致产生多余的凹凸，如图6所示，其中标号1表示凹凸。

现有的基于规则的OPC方法为了避免修正后图形尺寸违反设计规则，在测量图形边的间距和线宽时作一定的偏置，这会引起部分图形产生多余的凹凸，对最终OPC结果造成不利的影响。

结合图1所示，现有基于规则的OPC方法处理流程如下：

输入初始图形T0，选择不作移动的图形边X，选择需要移动的图形边B，设定图形边移动规则，根据规则移动图形边B，输出图形T1。

上述流程中不作移动的图形边X是指不适用既定规则的图形边，比如线终端。需要移动的图形边是指初始图形T0的所有图形边T0E减去不作移动的图形边,即B＝T0E–X。图形边移动规则是指根据间距和线宽对图形边进行移动。现有的规则在测量图形间距和线宽时，使用一定的偏置量避免修正后出现违反设计规则图形。根据规则移动图形边B时，目标图形T0作为OPC待修正图形。

发明内容

本发明要解决的技术问题是提供一种基于规则的OPC方法，能够使经过OPC处理后的修正图形不会产生多余的凹凸。

为解决上述技术问题，本发明的基于规则的OPC方法，包括如下步骤：

步骤一、输入初始图形T0；