[发明专利]基于规则的OPC方法有效
申请号: | 201711112632.7 | 申请日: | 2017-11-10 |
公开(公告)号: | CN107831636B | 公开(公告)日: | 2020-09-01 |
发明(设计)人: | 何大权;赵宝燕 | 申请(专利权)人: | 上海华力微电子有限公司 |
主分类号: | G03F1/36 | 分类号: | G03F1/36 |
代理公司: | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人: | 戴广志 |
地址: | 201203 上海市浦东新区*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基于 规则 opc 方法 | ||
1.一种基于规则的OPC方法,包括:
步骤一、输入初始图形T0;
步骤二、选择不作移动的图形边;其特征在于,还包括如下步骤:
步骤三、选择规则二图形边,该图形边记为B2;
步骤四、选择规则一图形边,该图形边记为B1;
步骤五、设定图形边移动规则一;
步骤六、根据图形边移动规则一移动图形边B1,得到的图形记为T1;
步骤七、选择图形T1中与图形边B2的共边,该共边记为B21;
步骤八、设定图形边移动规则二;
步骤九、根据图形边移动规则二移动图形边B21;
步骤十、输出图形;
步骤二所述“不作移动的图形边”,是指初始图形中不适用于既定规则的图形边;
步骤三所述“规则二图形边”,是指测量线宽或间距时使用偏置量会产生多余凹凸的图形边;
步骤四所述“规则一图形边”,是指初始图形的所有图形边去除不作移动的图形边和规则二图形边后的图形边;
步骤五所述“图形边移动规则一”,是指测量线宽和间距时使用偏置量;
步骤八所述“图形边移动规则二”,是指测量线宽时不使用偏置量,或测量间距时不使用偏置量;
步骤九所述“根据图形边移动规则二移动图形边B21”,是指以图形T1作为OPC待修正图形,初始图形T0作为测量图形间距的参考图形。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:该基于规则的OPC方法通过Calibre SVRF工具实现。
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G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
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G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备