[发明专利]异常探测装置

权利要求书

1.一种异常探测装置，具有：

收集部，其以规定的周期收集表示半导体制造装置的各部的状态的状态信息；

保存部，其按规定的单位保存由所述收集部收集到的所述状态信息来作为日志；

运算部，其基于所述日志来生成用于对所述半导体制造装置的各部的状态进行监视的监视带；以及

判定部，其基于所述状态信息和所述监视带来判定所述半导体制造装置的各部的状态是否异常。

2.根据权利要求1所述的异常探测装置，其特征在于，

在由所述半导体制造装置进行的工艺处理结束之后，所述判定部参照所述保存部来判定是否存在规定个数以上的通过与所述工艺处理中使用的制程相同的制程执行的工艺处理的日志。

3.根据权利要求2所述的异常探测装置，其特征在于，

所述监视带包括以下监视带：在由所述判定部判定为存在规定个数以上的通过与所述工艺处理中使用的制程相同的制程执行的工艺处理的日志的情况下，使用所述保存部中保存的多个所述日志来与所述制程相对应地生成的监视带。

4.根据权利要求1至3中的任一项所述的异常探测装置，其特征在于，

在所述半导体制造装置开始进行工艺处理时，所述判定部参照所述保存部来判定是否存在与所述工艺处理中使用的制程相对应的监视带，

在存在与所述工艺处理中使用的制程相对应的监视带的情况下，所述判定部基于所述工艺处理的日志和与所述工艺处理中使用的制程相对应的监视带，来判定所述半导体制造装置的各部的状态是否异常。

5.根据权利要求4所述的异常探测装置，其特征在于，

在所述判定部判定为所述半导体制造装置的各部的状态没有发生异常的情况下，所述运算部基于所述工艺处理的日志和与所述工艺处理中使用的制程相对应的所述监视带来生成新的监视带。

6.根据权利要求1至5中的任一项所述的异常探测装置，其特征在于，具有显示部，在所述判定部判定为所述半导体制造装置的各部的状态异常的情况下，该显示部显示所述半导体制造装置异常。

7.根据权利要求1至6中的任一项所述的异常探测装置，其特征在于，所述监视带是基于按所述规定的周期设定的上限值和下限值通过进行插值来计算的波形。

8.根据权利要求1至7中的任一项所述的异常探测装置，其特征在于，所述规定的单位是制程单位。

9.根据权利要求1至7中的任一项所述的异常探测装置，其特征在于，所述规定的单位是将制程细分化得到的步骤单位。

10.根据权利要求1至9中的任一项所述的异常探测装置，其特征在于，所述状态信息是包含所述半导体制造装置的各部的温度、压力、气体流量、电力的信息。