[发明专利]具奈米金属阵列的可挠式触控感测器及其制作方法

权利要求书

1.一种具奈米金属阵列的可挠式触控感测器制作方法，包括下列步骤：

a提供一氧化铟锡薄膜以及一奈米球溶液，该奈米球溶液包括一液体以及奈米等级的复数个球体分子；

b将该奈米球溶液涂布于该氧化铟锡薄膜的一表面上；

c使该等球体分子自组装排列并附着于该表面形成一遮罩层；

d利用该遮罩层的孔隙于该表面形成一金属阵列；

e移除该遮罩层；以及

f于该氧化铟锡薄膜上制作导电线路。

2.如权利要求1所述的具奈米金属阵列的可挠式触控感测器制作方法，其中该步骤b更包括：控制该液体的高度低于该球体分子的直径。

3.如权利要求1所述的具奈米金属阵列的可挠式触控感测器制作方法，其中该遮罩层仅由一层该等球体分子紧密排列组成。

4.如权利要求1所述的具奈米金属阵列的可挠式触控感测器制作方法，其中该步骤d更包括：该金属阵列是利用溅镀或电镀方式形成于该表面。

5.如权利要求1所述的具奈米金属阵列的可挠式触控感测器制作方法，其中该步骤d更包括：该金属阵列由点阵均匀分布的复数个三角锥金属点所构成。

6.如权利要求1所述的具奈米金属阵列的可挠式触控感测器制作方法，其中该步骤e更包括：利用一溶剂针对该表面进行清洗以移除该遮罩层。

7.一种利用如权利要求1至6任一项所述方法制作的可挠式触控感测器，包括：

一氧化铟锡薄膜，设置有触控电极走线；以及

一金属阵列，形成于该氧化铟锡薄膜一表面，该金属阵列包括点阵均匀分布于该表面上的复数个三角锥状金属点；

其中，该三角锥状金属点的底面直径小于400奈米。

8.如权利要求7所述的可挠式触控感测器，其中该金属阵列是透过溅镀或电镀金属方式形成于该氧化铟锡薄膜的表面。

9.如权利要求7所述的可挠式触控感测器，其中该金属阵列为金、银或铜材质金属。

10.如权利要求7所述的可挠式触控感测器，其中该三角锥状金属点之间的间距大于760奈米，且三角锥状金属点的高度介于60奈米至70奈米之间。